[发明专利]蒸镀结构、蒸镀系统及蒸镀结构的使用方法有效
| 申请号： | 201910069733.3 | 申请日： | 2019-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN109518136B | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 饶勇;李有亮;刘金彪;谭瑞;岳小非;罗楠;胡斌;仪修超;沈萌;加新星;肖鹏;李靖;晋亚杰 | 申请（专利权）人： | 成都京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 杨广宇 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种蒸镀结构、蒸镀系统及蒸镀结构的使用方法，属于显示技术领域。蒸镀结构包括：蒸镀坩埚、喷嘴和浮板，蒸镀坩埚用于盛放蒸镀源材料，蒸镀源材料的状态在受热后由液态变为气态；喷嘴设置在蒸镀坩埚的出口处，喷嘴用于向待蒸镀基板表面喷射呈气态的蒸镀源材料；浮板被配置为：漂浮在呈液态的蒸镀源材料的表面，且浮板与蒸镀坩埚的内壁之间具有间隙，浮板具有多个镂空结构，多个镂空结构被配置为：供呈气态的蒸镀源材料通过。本申请提高了在待蒸镀基板上形成的膜层的均一性。本申请用于蒸镀结构和蒸镀系统。 | ||
| 搜索关键词： | 结构 系统 使用方法 | ||
【主权项】：
1.一种蒸镀结构，其特征在于，所述蒸镀结构包括：蒸镀坩埚、喷嘴和浮板，所述蒸镀坩埚用于盛放蒸镀源材料，所述蒸镀源材料的状态在受热后由液态变为气态；所述喷嘴设置在所述蒸镀坩埚的出口处，所述喷嘴用于向待蒸镀基板表面喷射呈气态的所述蒸镀源材料；所述浮板被配置为：漂浮在呈液态的所述蒸镀源材料的表面，且所述浮板与所述蒸镀坩埚的内壁之间具有间隙，所述浮板具有多个镂空结构，所述多个镂空结构被配置为：供呈气态的所述蒸镀源材料通过。
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