[发明专利]使用多个波长的叠加测量在审
| 申请号： | 201880090659.7 | 申请日： | 2018-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN111801622A | 公开（公告）日： | 2020-10-20 |
| 发明（设计）人： | Y·拉姆霍特;E·阿米特;E·佩莱德;N·夕拉;维德·亚伦·郑 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种在半导体晶片制造过程中确定图案中的OVL的方法包括从经形成于所述晶片中的至少两个不同层中的计量目标中的单元捕获图像，其中所述目标的部分相对于不同层中的对应部分在相反方向上偏移。可使用多个不同波长的辐射来捕获所述图像，每一图像包含+1及‑1衍射图案。通过从所述多个波长中的每一者的+1及‑1衍射级减去相对像素，可为每一图像中的相应像素确定第一差分信号及第二差分信号。可基于同时分析来自多个波长的所述差分信号来确定用于所述相应像素的OVL。接着可将用于所述图案的OVL确定为所述相应像素的所述OVL的加权平均值。所述加权可根据所述OVL对波长变化的灵敏度。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 波长 叠加 测量 | ||
【主权项】：
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