[发明专利]测量结构的方法、检查设备、光刻系统和器件制造方法

摘要

重叠量测目标(600、900、1000)包含通过光刻术形成的多个重叠光栅(932‑935)。从目标获得第一衍射信号(740(1))，并导出目标结构的第一不对称性值(As)。从目标获得第二衍射信号(740(2))，并导出第二不对称性值(As')。使用不同的捕获条件和/或目标结构和/或偏置值的不同设计来获得第一衍射信号和第二衍射信号。第一不对称性信号和第二不对称性信号用于求解方程并获得重叠误差的测量结果。计算重叠误差假设给定目标结构中的不对称性不是由于在第一方向、第二方向或是两个方向上的重叠引起的。使用合适的偏置方案，该方法即使在存在二维重叠结构的情况下也允许准确地测量重叠和其它与不对称性相关的属性。

主权项

1.一种确定光刻过程的重叠性能的方法，所述方法包括以下步骤：/n(a)获得已经通过所述光刻过程形成的多个目标结构，每个目标结构包括在至少第一方向上周期性地布置的一组第一特征和在至少所述第一方向上周期性地布置的一组第二特征，在所述第二特征相对于所述第一特征的放置中时每个目标结构经受重叠误差，/n(b)使用检测系统来捕获第一衍射信号，所述第一衍射信号包括由所述目标结构的至少一个子组衍射的辐射的选定部分；/n(c)使用所述检测系统来捕获第二衍射信号，所述第二衍射信号包括由至少一个子组的重叠目标衍射的辐射的选定部分；/n(d)处理从所述第一衍射信号和第二衍射信号导出的不对称性信息，以至少计算在至少所述第一方向上的所述重叠误差的测量结果，/n其中，除了所述重叠误差之外，在所述第二特征相对于所述第一特征的放置中时所述目标结构已经形成有被编程的偏移，每个子组中的所述被编程的偏移在所述第一方向和第二方向两者上都不同，所述第一方向和所述第二方向不平行，/n并且其中，步骤(d)中的计算重叠误差将所述不对称性信息与所述被编程的偏移的知识相结合，同时假设给定目标结构中的不对称性不是由于所述第二特征在所述第一方向、第二方向或是两个方向上的相对移位引起的。/n