[发明专利]用于原位制造“马约拉纳材料-超导体”混合网络的方法以及通过该方法制造的混合结构在审
| 申请号： | 201880012815.8 | 申请日： | 2018-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN110291649A | 公开（公告）日： | 2019-09-27 |
| 发明（设计）人： | P.舒菲尔根;D.罗森巴赫;D.格吕茨马赫;T.谢佩斯 | 申请（专利权）人： | 于利奇研究中心有限公司 |
| 主分类号： | H01L39/22 | 分类号： | H01L39/22;G06N99/00;H01L39/24;B82Y10/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 臧永杰;刘春元 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及用于制造马约拉纳材料‑超导体混合结构的方法，其中在荫罩的辅助下在马约拉纳材料上施加超导材料，并且其中在衬底（1）上首先产生第一掩模（2,3），用于结构化地施加马约拉纳材料（6），以及产生其他掩模（荫罩）（4,5），用于超导材料（7）的结构化生长，第一掩模和其他掩模相对彼此对准，并且其中马约拉纳材料和超导层的施加在没有在惰性氛围中的中断的情况下优选在真空中并且特别有利地在超高真空中来进行。所制造的混合结构包括至少一个结构化的马约拉纳材料和至少一个在其上布置的超导材料以及钝化层，其中结构化的马约拉纳材料具有线形构型，其具有0.1至100μm之间的长度、10和200nm之间的宽度和具有12至260nm之间、优选15和50nm之间的层厚度。结构化的马约拉纳材料和至少一个在其上布置的超导材料之间的界面有利地是无污染的。结构化的马约拉纳材料的表面完全地要么由优选超导的材料要么由钝化层覆盖。 | ||
| 搜索关键词： | 结构化 超导材料 掩模 混合结构 优选 超导体 钝化层 施加 制造 荫罩 超高真空 惰性氛围 混合网络 结构化地 层厚度 超导层 衬底 构型 对准 中断 生长 覆盖 | ||
【主权项】：
1.用于制造混合结构（6，7，8, 9, 10）的方法，所述方法包括至少一个结构化的马约拉纳材料（6）和至少一个在其上布置的结构化的超导材料（8,9），其中在掩模（4,5）的辅助下在所述结构化的马约拉纳材料（6）上施加至少一个超导材料（8,9），其特征在于，在衬底（1）上首先产生第一掩模（2,3），用于所述马约拉纳材料（6）的结构化的施加，以及产生其他掩模（4,5），用于所述至少一个超导材料（8,9）的结构化生长，所述第一掩模和所述其他掩模相对彼此对准，其中所述马约拉纳材料（6）和所述至少一个超导材料（8,9）的所述结构化的施加在没有在惰性氛围中的中断的情况下优选在真空中来进行。
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