[实用新型]联合单面抛光机有效

专利信息
申请号: 201822193304.0 申请日: 2018-12-25
公开(公告)号: CN209998959U 公开(公告)日: 2020-01-31
发明(设计)人: 王乐军 申请(专利权)人: 东泰高科装备科技有限公司
主分类号: B24B37/10 分类号: B24B37/10;B24B37/005;B24B47/00;B24B47/12;B24B27/00
代理公司: 11002 北京路浩知识产权代理有限公司 代理人: 王莹;吴欢燕
地址: 102209 北京市昌平*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及化学机械抛光技术领域,公开了一种联合单面抛光机,包括抛光头旋转结构,所述抛光头旋转结构用于驱动抛光头从一个抛光盘到另一个抛光盘。通过抛光头旋转结构驱动抛光头旋转至对应抛光盘对晶片进行抛光加工,满足需要多步抛光的CMP抛光工序,可以一次性完成,大幅降低设备的耗材的成本,又减少了人工成本和车间建设成本,并缩短生产时间,提高生产效率,从而增强企业的市场竞争力。
搜索关键词: 抛光头 旋转结构 抛光盘 化学机械抛光 本实用新型 单面抛光机 市场竞争力 一次性完成 驱动 建设成本 降低设备 抛光工序 抛光加工 人工成本 生产效率 抛光 耗材 晶片 车间 联合 生产
【主权项】:
1.一种联合单面抛光机,其特征在于,包括抛光头旋转结构,所述抛光头旋转结构用于驱动抛光头从一个抛光盘到另一个抛光盘;/n还包括抛光头控制机构,所述抛光头控制机构与抛光头旋转结构电连接,抛光头安在所述抛光头控制机构上。/n
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