[发明专利]一种g-C3N4超薄纳米片的制备方法在审
| 申请号： | 201811640311.9 | 申请日： | 2018-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN109607500A | 公开（公告）日： | 2019-04-12 |
| 发明（设计）人： | 黄敏旋;王丽伟;符浩;余克服;王英辉 | 申请（专利权）人： | 广西大学 |
| 主分类号： | C01B21/082 | 分类号： | C01B21/082;B82Y40/00;B01J27/24;B01J20/02;B01J20/30 |
| 代理公司： | 北京君恒知识产权代理事务所(普通合伙) 11466 | 代理人： | 韦剑思;黄启行 |
| 地址： | 530004 广西壮族自治*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | 本发明公开一种g‑C3N4超薄纳米片的制备方法：将三聚氰胺水溶液进行水热反应后的产物清洗‑离心处理后，低温干燥，研磨，得到g‑C3N4前驱物颗粒物，在氮气保护氛围下进行退火处理，得到g‑C3N4超薄纳米片；本发明制备的g‑C3N4超薄纳米片结构具有独特的形貌特征，为大量的寡层(3‑5层)片状堆叠而成的二维超薄纳米结构，其形貌均匀且表面光滑平整，可以提供更多的活性吸附位点，有利于有机污染物分子的快速吸附；其次，大量的纳米薄片堆叠形成的结构极大地增加其比表面积，且多层叠加结构可增强其机械强度，势必改善其长期使用的稳定性，该片状超薄材料在气体传感、光催化剂及催化剂载体方面皆有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 超薄纳米片 制备 堆叠 三聚氰胺水溶液 有机污染物分子 形貌 催化剂载体 超薄材料 氮气保护 低温干燥 多层叠加 光催化剂 活性吸附 离心处理 纳米薄片 纳米结构 气体传感 水热反应 退火处理 形貌特征 研磨 颗粒物 前驱物 二维 寡层 位点 吸附 清洗 平整 应用 | ||
【主权项】：
1.一种g‑C3N4超薄纳米片的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：(1)将三聚氰胺在水浴条件下溶于去离子水中，搅拌至三聚氰胺完全溶解于去离子水中，得到三聚氰胺水溶液；(2)将步骤(1)中的三聚氰胺水溶液转入高压反应釜，进行水热反应12‑24h；(3)对所述步骤(2)得到的反应物进行清洗‑离心处理至少3次，清洗‑离心处理步骤为：在该反应产物中加入去离子水或无水乙醇对其进行清洗，然后进行离心处理，取下层固体物再重复清洗‑离心处理步骤，清洗‑离心处理完毕后低温干燥，得到棒状的g‑C3N4前驱物，并对g‑C3N4前驱物进行研磨；(4)将步骤(3)中研磨后的g‑C3N4前驱物在氮气保护氛围下进行退火处理，处理温度为400‑500℃，时间10‑12h，且处理时升温速度为5‑15℃/min，退火处理结束后得到g‑C3N4超薄纳米片。
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- 黄敏旋;王丽伟;符浩;余克服;王英辉 - 广西大学
- 2018-12-29 - 2019-04-12 - C01B21/082
- 本发明公开一种g‑C3N4超薄纳米片的制备方法：将三聚氰胺水溶液进行水热反应后的产物清洗‑离心处理后，低温干燥，研磨，得到g‑C3N4前驱物颗粒物，在氮气保护氛围下进行退火处理，得到g‑C3N4超薄纳米片；本发明制备的g‑C3N4超薄纳米片结构具有独特的形貌特征，为大量的寡层(3‑5层)片状堆叠而成的二维超薄纳米结构，其形貌均匀且表面光滑平整，可以提供更多的活性吸附位点，有利于有机污染物分子的快速吸附；其次，大量的纳米薄片堆叠形成的结构极大地增加其比表面积，且多层叠加结构可增强其机械强度，势必改善其长期使用的稳定性，该片状超薄材料在气体传感、光催化剂及催化剂载体方面皆有良好的应用前景。
- 一种石墨相氮化碳纳米环材料及其制备方法-201710290099.7
- 赵宗彬;冯锟;王爽;邱介山 - 大连理工大学
- 2017-04-28 - 2019-04-09 - C01B21/082
- 一种石墨相氮化碳（g‑C3N4）纳米环材料及其制备方法，属于纳米材料制备技术领域。该g‑C3N4纳米环材料为圆环状结构，外环直径为20‑1000nm，外环高度为20‑200nm，内部圆孔直径为10‑800nm。其制备方法为：以三聚氰胺作为前驱体，二氧化硅纳米球为模板，受热升华的前驱体在载气的吹扫下进入高温区发生热缩聚反应，热缩聚产物在二氧化硅纳米球表面自组装形成g‑C3N4纳米环，冷却后利用刻蚀试剂去除模板，将产物干燥得到g‑C3N4纳米环材料。该g‑C3N4与热缩聚法形成的体相g‑C3N4相比，具有更高的比表面积、更优异的光生电子‑空穴分离能力和更良好的导电性，不仅可用于光催化产氢，光催化二氧化碳还原及光催化降解有机物等领域，也能作为载体负载催化剂或药物，在能源、环境及医药领域具有广阔的应用前景。
- 一种三角形磷、硫掺杂氮化碳纳米片的制备方法-201910065688.4
- 于京华;殷雪梅;张丽娜;葛慎光 - 济南大学
- 2019-01-24 - 2019-04-02 - C01B21/082
- 本发明公开了一种三角形磷、硫掺杂氮化碳纳米片的制备方法，属于无机半导体纳米材料的制备领域。本方法包括以下步骤：高温煅烧‑研磨溶解‑超声剥落‑离心洗涤‑蒸发浓缩。本发明的优点是工艺流程简单，对环境无污染，操作过程简单，成本低，反应条件易实现，形成大面积三角形纳米材料结构不仅展现出丰富的活性采光面积，同时其丰富的内部中空结构有望在药物负载与传输、光催化等领域取得应用。
- 一种改性氮化碳及其制备方法和一种印染废水去除剂及其制备方法-201710583744.4
- 王堃;林林华 - 佛山市华堃环保科技有限公司
- 2017-07-18 - 2019-03-22 - C01B21/082
- 本发明提供了一种改性氮化碳及其制备方法和一种印染废水去除剂及其制备方法。本发明提供一种多孔结构的改性氮化碳，将该改性氮化碳用于印染废水去除剂中，改性氮化碳的多孔结构能够协助混凝剂和絮凝剂实现对印染废水的吸附和去除，能够快速且高效的处理印染废水。由实施例的实验结果可知，本发明得到的印染废水去除剂能够在20～30s内快速处理印染废水，印染废水中COD去除率可达到97％。
- 一种氮化硼-石墨烯膜的制备方法-201811654579.8
- 苗中正;田华雨;苗中明 - 盐城师范学院
- 2018-12-17 - 2019-03-12 - C01B21/082
- 本发明提供一种氮化硼‑石墨烯膜的制备方法。以六方氮化硼为原材料，一步制备二维羟基化氮化硼；用氯酸钠、浓硫酸和双氧水对高质量石墨烯进行氧化，得到羧基化石墨烯；向羧基化石墨烯中加入亚硫酰氯，加热回流反应制得酰氯化石墨烯；将二维羟基化氮化硼分散在四氢呋喃溶剂中，加入氢氧化钠调节pH值，冰浴条件下逐滴加入酰酰氯化石墨烯，反应后用尼龙滤膜过滤成膜。本发明所述方法制备具有强的面面相互作用和更优有序结构的氮化硼‑石墨烯膜，具有优异的横向传热能力、力学强度与柔韧性，石墨烯片层和氮化硼片层之间紧密连接，可以保持较高的热稳定性及热导率，制备工艺简单，对设备的要求较低，适于工业或实验室操作。
- 一种高比电容(BC)xNyOz材料及其合成方法-201710378559.1
- 李东旭;陈东平 - 华侨大学
- 2017-05-25 - 2019-03-12 - C01B21/082
- 本发明提供了一种高比电容(BC)xNyOz材料及其合成方法，包括(1)将分别含B原料和含CN原料加入溶剂中超声溶解，预处理混合溶液；(2)将上述混合溶液与催化剂混合，放入密闭的反应釜中，经加热冷却得到粗产物溶液；(3)分离出上述粗产物溶液中的固体，在稀有气体保护下二段加热以除去溶剂及多余水分后进行充分研磨，得到粗产物粉末；(4)用酸和去离子水洗涤上述粗产物粉末，得到(BC)xNyOz材料，其中3≤x≤9，0.5≤y≤1，0≤z≤9。
- 一种利用冷冻干燥处理制备多孔硼碳氮纳米片的方法-201710481725.0
- 郝霄鹏;马福坤;吴拥中;邵永亮 - 山东大学
- 2017-06-22 - 2019-03-08 - C01B21/082
- 一种利用冷冻干燥处理制备多孔硼碳氮纳米片的方法，包括以下步骤：(1)将硼源、碳源和氮源按比例混合，形成原料混合物，加水使原料混合物溶解，形成原料混合物溶液；(2)将原料混合物溶液冷凝固化后进行冷冻干燥处理；(3)将冷冻干燥得到的粉末在气氛保护或者真空环境下，800℃～1200℃反应0.5小时～12小时；(4)放入球磨机内球磨2小时～8小时；(5)待球磨产物冷却至室温后，清洗干燥处理，即得到多孔硼碳氮纳米片。该方法操作程序简单，有利于提高产率，降低成本；反应过程中的各种参数易于监测和控制，容易研究反应机理，找出最关键的影响因素，尽快稳定工艺条件；环境污染少，有利于环境保护。
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