[发明专利]一种背照式光电器件的背面处理工艺在审

专利信息
申请号: 201811631961.7 申请日: 2018-12-28
公开(公告)号: CN111384204A 公开(公告)日: 2020-07-07
发明(设计)人: 张文剑;张清军;邹湘;龚义岩 申请(专利权)人: 清华大学;同方威视技术股份有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 张启程
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种背照式光电器件的背面处理工艺,包括以下步骤:对背照式光电器件进行机械减薄,以使所述背照式光电器件的厚度达到所需厚度;采用硝酸溶液和氢氟酸溶液对机械减薄后的背照式光电器件的背面进行化学减薄和化学抛光,以使所述背照式光电器件的厚度达到要求的厚度并且使所述背照式光电器件的背面粗糙度达到要求的表面粗糙度;该工艺采用机械减薄以及化学减薄和化学抛光处理背照式光电器件的背面,可以减少背照式光电器件的背面加工对CMP设备的需求,降低光电器件背面处理的成本,提高光电器件的制造效率,因此较为适用于背照式光电器件的研发和小批量生产。
搜索关键词: 一种 背照式 光电 器件 背面 处理 工艺
【主权项】:
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