[发明专利]新型四羧酸二酐、聚酰亚胺树脂及其制造方法、光敏树脂组合物、图案形成方法有效
| 申请号： | 201811477764.4 | 申请日： | 2018-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN110016136B | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 浦野宏之;鹰野广季;饭尾匡史;竹村胜也;本田和也 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08G73/10 | 分类号： | C08G73/10;G03F7/004;G03F7/008;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/20;G03F7/32 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 张晶;谢顺星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种能够导出聚酰亚胺的四羧酸二酐、使用该四羧酸二酐而得到的聚酰亚胺树脂及其制造方法，所述聚酰亚胺可在不损害机械强度、密着性等优异的特征的情况下形成微细的图案并得到高分辨率，且可用作光敏树脂组合物的基础树脂。所述四羧酸二酐的特征在于，为下述通式(1)所示的四羧酸二酐。[化学式1] |
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| 搜索关键词： | 新型 羧酸 聚酰亚胺 树脂 及其 制造 方法 光敏 组合 图案 形成 | ||
【主权项】：
1.一种四羧酸二酐，其特征在于，为下述通式(1)所示的四羧酸二酐，[化学式1]![]()
式中，Z表示可以在之间包含氧原子的碳原子数为4～100的直链状或支链状的二价烃基；R1～R4表示可以相同或不同的碳原子数为1～8的一价烃基，R5表示三价有机基团；n为1～100的整数。
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