[发明专利]一种TA15合金表面耐磨Nb-N共渗层及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 201811473601.9 | 申请日： | 2018-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN109554667B | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 缪强;易锦伟;梁文萍;丁铮;林浩;安浩;孙自旺;亓艳;马海瑞 | 申请（专利权）人： | 南京航空航天大学 |
| 主分类号： | C23C14/16 | 分类号： | C23C14/16;C23C14/06;C23C14/34;C23C14/02 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 殷星 |
| 地址： | 210016 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种TA15合金表面耐磨Nb‑N共渗层及其制备方法与应用。该Nb‑N共渗层采用双层辉光等离子冶金技术获得沉积在TA15合金表面的Nb‑N共渗层，所述Nb‑N共渗层包括由TA15合金表面向外的扩散层和沉积层，所述沉积层厚度为6‑8μm；所述扩散层为2‑3μm，所述扩散层中Nb‑N含量从扩散层的表面向TA15合金内部逐渐降低。上述TA15合金表面耐磨Nb‑N共渗层在汽车，航空等工业中应用。本发明制得的Nb‑N共渗层与TA15合金基体结合性能优越，整个涂层由外部的沉积层和内部的扩散层组成，实现了涂层与基体的冶金结合，能够在服役过程中有效保护TA15合金。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 ta15 合金 表面 耐磨 nb 共渗层 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种TA15合金表面耐磨Nb‑N共渗层，其特征在于，采用双层辉光等离子冶金技术获得沉积在TA15合金表面的Nb‑N共渗层，所述Nb‑N共渗层包括由TA15合金表面向外的扩散层和沉积层，所述沉积层厚度为6‑8μm；所述扩散层为2‑3μm，所述扩散层中Nb‑N含量从扩散层的表面向TA15合金内部逐渐降低。
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