[发明专利]一种铕掺杂的g-C3N4基半导体材料及其制备方法在审
申请号: | 201811323925.4 | 申请日: | 2018-11-07 |
公开(公告)号: | CN109337679A | 公开(公告)日: | 2019-02-15 |
发明(设计)人: | 荣铭聪;邓湘舟 | 申请(专利权)人: | 广州大学 |
主分类号: | C09K11/65 | 分类号: | C09K11/65 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 颜希文;宋静娜 |
地址: | 510000 广东省广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种铕掺杂的g‑C3N4基半导体材料及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤:(1)将铕的水溶性无机盐、三聚氰酸、2,4‑二氨基‑6‑苯基‑1,3,5‑三嗪和超纯水混合,搅拌均匀,得到混合液;(2)将混合液烘干,得到白色固体前驱体;(3)将白色固体前驱体在惰性气体保护下,在450℃~550℃煅烧2~4h,自然冷却,得到所述铕掺杂的g‑C3N4基半导体材料,其中所述g‑C3N4基半导体材料中Eu含量为0~10wt%且不包括0wt%。本发明通过不同比例铕元素的掺杂,g‑C3N4基半导体材料的荧光可从亮蓝色红移至黄绿色。 | ||
搜索关键词: | 半导体材料 铕掺杂 制备 混合液 前驱体 惰性气体保护 水溶性无机盐 三聚氰酸 超纯水 二氨基 亮蓝色 烘干 荧光 苯基 红移 三嗪 煅烧 掺杂 | ||
【主权项】:
1.一种铕掺杂的g‑C3N4基半导体材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将铕的水溶性无机盐、三聚氰酸、2,4‑二氨基‑6‑苯基‑1,3,5‑三嗪和超纯水混合,搅拌均匀,得到混合液;(2)将混合液烘干,得到白色固体前驱体;(3)将白色固体前驱体在惰性气体保护下,在450℃~550℃煅烧2~4h,自然冷却,得到所述铕掺杂的g‑C3N4基半导体材料,其中所述g‑C3N4基半导体材料中Eu含量为0~10wt%且不包括0wt%。
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