[发明专利]半导体封装结构与其制造方法在审
申请号: | 201811215314.8 | 申请日: | 2013-03-01 |
公开(公告)号: | CN109449129A | 公开(公告)日: | 2019-03-08 |
发明(设计)人: | 粘为裕;黄国峰 | 申请(专利权)人: | 日月光半导体制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/34 | 分类号: | H01L23/34;H01L23/31 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 李玉锁;章侃铱 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明的目的在于提供一种半导体封装结构与其制造方法,所述半导体封装结构包括基板、至少一电子元件、加热层、绝缘层以及电磁遮蔽层。基板包括第一接垫以及第二接垫,电子元件装设于基板上,加热层位于电子元件之上,且提供一热能至电子元件,且加热层与第一接垫以及第二接垫电性连接,电磁遮蔽层位于加热层之上,而绝缘层位于加热层与电磁遮蔽层之间。 | ||
搜索关键词: | 加热层 接垫 半导体封装结构 电磁遮蔽层 基板 绝缘层 电性连接 装设 制造 | ||
【主权项】:
1.一种半导体封装结构,其特征在于该半导体封装结构包括:基板,包括第一接垫以及第二接垫,该第一接垫以及该第二接垫配置于该基板的侧面;至少一电子元件,装设于该基板上;加热层,位于该电子元件的四周及上方,该加热层提供热能至该电子元件,该加热层与该第一接垫以及该第二接垫电性连接,且该加热层与该电子元件之间形成空腔;以及电磁遮蔽层,位于该加热层的外侧;绝缘层,位于该加热层与该电磁遮蔽层之间。
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