[发明专利]一种提高减薄后的GaAs基LED晶片衬底与金属粘附性的方法有效
申请号: | 201810833429.7 | 申请日: | 2018-07-26 |
公开(公告)号: | CN110767530B | 公开(公告)日: | 2022-06-07 |
发明(设计)人: | 徐晓强;张兆喜;闫宝华;王成新 | 申请(专利权)人: | 山东浪潮华光光电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L21/306;H01L33/00 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 杨树云 |
地址: | 261061 *** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明涉及一种提高减薄后的GaAs基LED晶片衬底与金属粘附性的方法,包括:(1)GaAs衬底减薄;(2)GaAs衬底表面刮片:将晶片背面朝上放置在平整的台面上,刮除GaAs衬底表面较大的颗粒;(3)GaAs衬底表面物理处理:使用粘性膜贴附在GaAs衬底表面上,对GaAs衬底表面上的残渣碎屑进行粘附。(4)GaAs衬底表面化学腐蚀:将晶片放置在氨水、双氧水的混合溶液中进行加热超声腐蚀,腐蚀完成后依次进行冲水、干燥;(5)N电极制作、管芯切割:在晶片的GaAs衬底表面上制作N电极,并将管芯切割。本发明在不对晶片造成影响的条件下,彻底快速有效的去除了背面残渣碎屑,提高后续N电极制作的粘附性。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 减薄后 gaas led 晶片 衬底 金属 粘附 方法 | ||
【主权项】:
1.一种提高减薄后的GaAs基LED晶片衬底与金属粘附性的方法,其特征在于,所述GaAs基LED晶片包括由下自上如下依次生长的GaAs衬底、外延层、P电极,包括步骤如下:/n(1)所述GaAs衬底减薄:将所述GaAs衬底减薄至30-200μm;/n(2)所述GaAs衬底表面刮片:将步骤(1)制作完成的晶片,背面朝上放置在平整的台面上,刮除所述GaAs衬底表面颗粒,所述台面的温度为40-90℃;/n(3)所述GaAs衬底表面物理处理:将步骤(2)制作完成的晶片,背面朝上放置在平整的台面上,使用粘性膜贴附在所述GaAs衬底表面上,对所述GaAs衬底表面上的残渣碎屑进行粘附;/n(4)所述GaAs衬底表面化学腐蚀:将步骤(3)制作完成的晶片放置在氨水、双氧水的混合溶液中进行加热超声腐蚀,腐蚀完成后依次进行冲水、干燥;/n(5)N电极制作、管芯切割:在步骤(4)中制作完成的晶片的所述GaAs衬底表面上制作N电极,并将管芯切割,完成整个管芯制作;/n进一步优选的,所述步骤(3)中,粘附1-3次,每次使用新的粘性膜。/n
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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