[发明专利]用于高纯薄膜沉积的原子层沉积系统

摘要

本发明涉及用于高纯薄膜沉积的原子层沉积系统。柜体包括前柜体和后柜体，反应腔安装在前柜体顶部，反应腔包含外腔体和多个内腔处理单元，多个的内腔处理单元在外腔体内呈多层分布，每个内腔处理单元均包括内腔体、内腔上盖和内腔加热器，内腔体与内腔上盖构成沉积腔室，内腔加热器设置在内腔体底部；每个内腔处理单元均对应配备一套前驱体输送系统和一套抽气系统；进样中转腔安装在前柜体顶部，进样中转腔与反应腔中的每个内腔处理单元之间均设有一件插板阀，搬运机器人装置设置在进样中转腔内。本发明可以避免不同薄膜之间的交互污染，同时可以满足多种前驱体源沉积多种薄膜的要求，且可以在不产生交互污染的情况下沉积多组分薄膜。

主权项

1.用于高纯薄膜沉积的原子层沉积系统，包括柜体(1)、反应腔(2)、进样中转腔(3)、前驱体输送系统和抽气系统；其特征在于：所述柜体(1)包括前柜体(1.1)和后柜体(1.2)，所述前柜体(1.1)的高度低于后柜体(1.2)；/n所述反应腔(2)安装在前柜体(1.1)顶部，反应腔(2)包含外腔体(2.1)和多个内腔处理单元(2.2)，多个所述的内腔处理单元(2.2)在外腔体(2.1)内呈多层分布，每个内腔处理单元(2.2)均包括内腔体(2.2a)、内腔上盖(2.2b)和内腔加热器(2.2c)，所述内腔上盖(2.2b)盖合在内腔体(2.2a)的上端开口处，内腔体(2.2a)与内腔上盖(2.2b)构成沉积腔室，所述内腔加热器(2.2c)设置在内腔体(2.2a)底部；每个内腔处理单元(2.2)均对应配备一套前驱体输送系统和一套抽气系统，内腔处理单元(2.2)的内腔体(2.2a)上设有前驱体入口和排气口，所述前驱体入口与对应的前驱体输送系统连接，所述排气口与所述抽气系统连接；/n所述进样中转腔(3)安装在前柜体(1.1)顶部并与反应腔(2)相邻，进样中转腔(3)包括进样中转壳体(3.1)，所述进样中转壳体(3.1)背离反应腔(2)的一侧设有样品放入口，所述样品放入口配装有中转密封门(3.2)；进样中转腔(3)与反应腔(2)中的每个内腔处理单元(2.2)之间均设有一件插板阀(4)，所述搬运机器人装置(5)设置在进样中转腔(3)内，搬运机器人装置(5)能够将样品经插板阀(4)送入到对应的内腔处理单元(2.2)中。/n