[发明专利]硬掩模组合物、使用硬掩模组合物形成图案的方法、和由硬掩模组合物形成的硬掩模

摘要

提供硬掩模组合物、使用硬掩模组合物形成图案的方法、和由硬掩模组合物形成的硬掩模，所述硬掩模组合物包括由式1表示的结构和溶剂，其中在式1中，R₁‑R₈、X和M详细地描述于具体实施方式部分中。式1

主权项

1.硬掩模组合物，其包括：溶剂；和由式1表示的结构，式1其中，在式1中，X为C(R11)或N，R1‑R8和R11各自独立地包括如下之一：氢、取代或未取代的C1‑C20烷基、取代或未取代的C1‑C20烷氧基、取代或未取代的C2‑C20烯基、取代或未取代的C2‑C20炔基、取代或未取代的C6‑C20芳基、取代或未取代的C6‑C20芳氧基、取代或未取代的C2‑C20杂芳基、取代或未取代的C2‑C20杂芳氧基、取代或未取代的C2‑C20碳环基团、取代或未取代的C2‑C20碳环‑氧基、取代或未取代的C2‑C20杂环基团、卤素原子、氰基、羟基、酰亚胺基、羰基、环氧基、包括环氧基的官能团、‑C(＝O)R、‑C(＝O)NH2、其中n为1‑10的整数的‑(CH2)nCOOH、或‑N(R9)(R10)，或者R1和R2、R3和R4、R5和R6、以及R7和R8各自独立地结合以形成环，R包括如下之一：氢、羟基、C1‑C20烷基、C2‑C20烯基、C2‑C20炔基、C6‑C20芳基、C2‑C20杂芳基、或C2‑C20杂芳氧基，R9和R10各自独立地包括如下之一：氢、C1‑C20烷基、C2‑C20烯基、C2‑C20炔基、C6‑C20芳基、C2‑C20杂芳基、或C2‑C20杂芳氧基，和M包括来自2‑11和14族之一的元素、或其氧化物。