[发明专利]基板翘曲监视装置、基板处理装置及基板翘曲监视方法有效

专利信息
申请号: 201810731772.0 申请日: 2018-07-05
公开(公告)号: CN109216237B 公开(公告)日: 2023-06-23
发明(设计)人: 千叶俊弥;佐佐木祐也;田口纯之介 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的目的在于提供一种能够监视旋转台旋转过程中的基板的翘曲、能够预测基板的脱离的基板翘曲监视装置、基板处理装置以及基板翘曲监视方法。基板翘曲监视装置对在旋转台上沿周向设置的基板载置区域上载置的基板在旋转台旋转过程中的翘曲进行监视,基板翘曲监视装置具有:光学式位移计,其能够从旋转台的上方向旋转台上的规定位置照射光并接收来自旋转台旋转而通过所述规定位置的旋转台和基板的反射光,来测量基板的表面特征;存储单元,其存储将光照射于规定的参照面时的测量值来作为参照值;以及运算单元,其基于光学式位移计测量出的基板的表面特征和存储单元中存储的参照值来计算基板的翘曲量。
搜索关键词: 基板翘曲 监视 装置 处理 方法
【主权项】:
1.一种基板翘曲监视装置,对在旋转台上沿周向设置的基板载置区域上载置的基板在所述旋转台旋转过程中的翘曲进行监视,所述基板翘曲监视装置具有:光学式位移计,其能够从所述旋转台的上方向所述旋转台上的规定位置照射光,接收来自所述旋转台旋转而通过所述规定位置的所述旋转台和所述基板的反射光,来测量所述基板的表面特征;存储单元,其存储将所述光照射于规定的参照面时的测量值来作为参照值;以及运算单元,其基于所述光学式位移计测量出的所述基板的表面特征和所述存储单元中存储的参照值来计算所述基板的翘曲量。
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