[发明专利]常温电沉积-扩渗制备梯度硅钢薄带的方法及专用镀液有效

专利信息
申请号: 201810703345.1 申请日: 2018-07-02
公开(公告)号: CN108823618B 公开(公告)日: 2019-10-18
发明(设计)人: 盛敏奇;吴琼;吕凡;许继芳;翁文凭 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: C25D3/56 分类号: C25D3/56;C25D5/18;C25D5/50
代理公司: 宁波高新区核心力专利代理事务所(普通合伙) 33273 代理人: 袁丽花
地址: 215104 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种常温电沉积‑扩渗制备梯度硅钢薄带的方法及专用镀液,以低硅钢薄带作为阴极镀件,在溶有SiCl4、FeCl2和/或其水合物的碳酸丙烯酯体系中,以四丁基氯化铵为支持电解质,在无水无氧环境中,通过脉冲电沉积方法在阴极镀件进行Fe‑Si合金层的电沉积制备,然后置于还原气氛炉中,进行热扩渗处理,使Si有效渗入基底表层,制备出梯度高硅钢薄带。本发明采用电沉积方法和热处理工艺对低硅钢薄带进行表面处理,实现普通的低硅钢薄带表层Si的二次添加,制备出梯度高硅钢薄带,制备方法简单高效。
搜索关键词: 薄带 制备 电沉积 低硅钢 阴极 硅钢 高硅钢 镀件 镀液 水合物 四丁基氯化铵 无水无氧环境 还原气氛炉 脉冲电沉积 热处理工艺 碳酸丙烯酯 支持电解质 基底表层 合金层 热扩 渗入
【主权项】:
1.一种常温下沉积制备Fe‑Si合金镀层的镀液,其特征在于,包含下述组分:
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