[发明专利]常温电沉积-扩渗制备梯度硅钢薄带的方法及专用镀液有效
申请号: | 201810703345.1 | 申请日: | 2018-07-02 |
公开(公告)号: | CN108823618B | 公开(公告)日: | 2019-10-18 |
发明(设计)人: | 盛敏奇;吴琼;吕凡;许继芳;翁文凭 | 申请(专利权)人: | 苏州大学 |
主分类号: | C25D3/56 | 分类号: | C25D3/56;C25D5/18;C25D5/50 |
代理公司: | 宁波高新区核心力专利代理事务所(普通合伙) 33273 | 代理人: | 袁丽花 |
地址: | 215104 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种常温电沉积‑扩渗制备梯度硅钢薄带的方法及专用镀液,以低硅钢薄带作为阴极镀件,在溶有SiCl4、FeCl2和/或其水合物的碳酸丙烯酯体系中,以四丁基氯化铵为支持电解质,在无水无氧环境中,通过脉冲电沉积方法在阴极镀件进行Fe‑Si合金层的电沉积制备,然后置于还原气氛炉中,进行热扩渗处理,使Si有效渗入基底表层,制备出梯度高硅钢薄带。本发明采用电沉积方法和热处理工艺对低硅钢薄带进行表面处理,实现普通的低硅钢薄带表层Si的二次添加,制备出梯度高硅钢薄带,制备方法简单高效。 | ||
搜索关键词: | 薄带 制备 电沉积 低硅钢 阴极 硅钢 高硅钢 镀件 镀液 水合物 四丁基氯化铵 无水无氧环境 还原气氛炉 脉冲电沉积 热处理工艺 碳酸丙烯酯 支持电解质 基底表层 合金层 热扩 渗入 | ||
【主权项】:
1.一种常温下沉积制备Fe‑Si合金镀层的镀液,其特征在于,包含下述组分:![]()
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