[发明专利]一种Nd:GGG晶体平面光学元件高效低损伤加工方法在审
| 申请号： | 201810635784.3 | 申请日： | 2018-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN108818157A | 公开（公告）日： | 2018-11-16 |
| 发明（设计）人： | 胡春光;刘军;房丰洲;胡小唐 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人： | 程毓英 |
| 地址： | 300072*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种Nd:GGG晶体平面光学元件高效低损伤加工方法，包括：1)将Nd:GGG晶体固定在模具上，使用规格为W40的金刚砂固结磨料对晶体进行粗磨；2)更换磨料为W20的金刚砂，对前一道工序的晶体继续研磨；3)使用沥青盘作为抛光盘，修整沥青盘面型和粗糙度后，使用W2.5的刚玉作为磨料对晶体进行粗抛至去除研磨阶段产生的凹坑；4)更换抛光垫和磨料分别为聚酯胺抛光垫、W0.5金刚石微粉，在前一道工序的基础上继续抛光；5)使用粒径在50‑70nm的二氧化硅抛光液在绒布抛光垫下抛光，此过程中抛光盘转速不变，载荷维持稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 磨料 平面光学元件 研磨 低损伤 金刚砂 抛光垫 抛光 沥青 二氧化硅抛光液 金刚石微粉 抛光盘转速 固结磨料 绒布抛光 维持稳定 粗糙度 聚酯胺 抛光盘 凹坑 粗磨 粗抛 刚玉 粒径 盘面 去除 加工 模具 修整 | ||
【主权项】：
1.一种Nd:GGG晶体平面光学元件高效低损伤加工方法，包括以下步骤：1)将Nd:GGG晶体固定在模具上，使用规格为W40的金刚砂固结磨料对晶体进行粗磨；2)更换磨料为W20的金刚砂，对前一道工序的晶体继续研磨；3)使用沥青盘作为抛光盘，修整沥青盘面型和粗糙度后，使用W2.5的刚玉作为磨料对经过2)步骤精磨的晶体进行粗抛至去除研磨阶段产生的凹坑；4)更换抛光垫和磨料分别为聚酯胺抛光垫、W0.5金刚石微粉，在前一道工序的基础上继续抛光；5)使用粒径在50‑70nm的二氧化硅抛光液在绒布抛光垫下抛光，此过程中抛光盘转速不变，载荷维持稳定；6)将晶体置于无水乙醇中超声清洗。
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