[发明专利]用于扇出型晶圆级芯片的表面处理、封装系统及操作方法在审
申请号: | 201810548468.2 | 申请日: | 2018-05-31 |
公开(公告)号: | CN108565235A | 公开(公告)日: | 2018-09-21 |
发明(设计)人: | 袁洪星;温维娟 | 申请(专利权)人: | 亚智系统科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 广州市红荔专利代理有限公司 44214 | 代理人: | 关家强 |
地址: | 215153 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及晶圆级芯片封装技术领域,公开了一种用于扇出型晶圆级芯片的表面处理、封装系统及操作方法,包括:壳体、控制系统、抽气系统、系统槽体、喷洒入液管、喷洒回流管和过滤系统;抽气系统、系统槽体、喷洒入液管、喷洒回流管都设置于壳体内;控制系统安装于壳体外部,与抽气系统、喷洒入液管、喷洒回流管、过滤系统相连接;过滤系统与系统槽体、喷洒入液管相连接;喷洒入液管与喷盘相连接;喷洒回流管与工作台、系统槽体相连接;工作台中间设置有相连通的上下两个凹槽,上凹槽用于放置扇出型晶圆级芯片,下凹槽用于放置喷盘。本发明完成扇出型晶圆级芯片的封装,功能更加全面,无需全线停机,提高了工作效率,节省了维修成本。 | ||
搜索关键词: | 喷洒 入液管 晶圆级芯片 回流管 扇出型 系统槽 抽气系统 过滤系统 封装系统 控制系统 工作台 喷盘 晶圆级芯片封装 工作效率 壳体外部 维修成本 中间设置 上凹槽 下凹槽 壳体 体相 停机 封装 体内 | ||
【主权项】:
1.一种用于扇出型晶圆级芯片的表面处理、封装系统,其特征在于,包括:壳体、控制系统、抽气系统、系统槽体、喷洒入液管、喷洒回流管和过滤系统;所述抽气系统、所述系统槽体、所述喷洒入液管、所述喷洒回流管都设置于所述壳体内;所述控制系统安装于所述壳体外部,与所述抽气系统、喷洒入液管、喷洒回流管、过滤系统相连接;所述过滤系统,一端通过泵浦、过滤进液管与所述系统槽体相连接,另一端与所述喷洒入液管相连接;所述喷洒入液管,与喷盘相连接;所述喷洒回流管,一端与工作台相连接,另一端与所述系统槽体相连接;所述工作台,中间设置有相连通的上下两个凹槽,上凹槽用于放置扇出型晶圆级芯片,下凹槽用于放置喷盘。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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