[发明专利]用于应用处理器和存储器集成的薄3D扇出嵌入式晶片级封装(EWLB)有效
申请号: | 201810447726.8 | 申请日: | 2013-03-08 |
公开(公告)号: | CN108538781B | 公开(公告)日: | 2022-09-09 |
发明(设计)人: | R.D.彭德斯 | 申请(专利权)人: | 星科金朋私人有限公司 |
主分类号: | H01L21/768 | 分类号: | H01L21/768;H01L23/538 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 周学斌;刘春元 |
地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及用于应用处理器和存储器集成的薄3D扇出嵌入式晶片级封装(EWLB)。一种具有多个第一半导体管芯的半导体器件,该第一半导体管芯具有沉积在第一半导体管芯的第一表面上和第一半导体管芯周围的密封剂。在密封剂上和第一半导体管芯的与第一表面相对的第二表面上形成绝缘层。该绝缘层包括在第一半导体管芯上的开口。在第一半导体管芯上在开口内形成第一导电层。在第一导电层上形成第二导电层以形成垂直导电通孔。第二半导体管芯被置于第一半导体管芯上且被电连接到第一导电层。将凸点形成在第一半导体管芯的占位面积外的第二导电层上。第二半导体管芯被置于有效表面或第一半导体管芯的后表面上。 | ||
搜索关键词: | 用于 应用 处理器 存储器 集成 嵌入式 晶片 封装 ewlb | ||
【主权项】:
1.一种制造半导体器件的方法,包括:提供第一半导体管芯;在所述第一半导体管芯周围沉积密封剂;在所述第一半导体管芯和密封剂上形成多个绝缘层;形成穿过所述多个绝缘层并且延伸到所述第一半导体管芯的有效表面的导电通孔;提供第二半导体管芯,所述第二半导体管芯包括在所述第二半导体管芯的有效表面上形成的第一互连结构;以及在所述第一半导体管芯上布置所述第二半导体管芯,其中所述导电通孔延伸到所述第一互连结构。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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