[发明专利]真空压力控制装置和微波等离子体化学气相沉积装置在审

专利信息
申请号: 201810408636.8 申请日: 2018-05-02
公开(公告)号: CN108517556A 公开(公告)日: 2018-09-11
发明(设计)人: 马懿;马修·L·斯卡林;朱金华;吴建新;缪勇;卢荻;艾永干;克里斯托弗·E·格里芬 申请(专利权)人: FD3M公司
主分类号: C30B25/02 分类号: C30B25/02;C30B29/04
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 代理人: 王锋;王茹
地址: 美国加利福尼亚*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 本申请公开了一种真空压力控制装置,包括:至少一条第一真空管路,连通于抽真空接口和真空泵之间,每条第一真空管路上分别设置有一阀门;至少一条第二真空管路,连通于抽真空接口和真空泵之间,每条第二真空管路上分别设置有一阀门和一比例阀,该比例阀包括密封板、以及开设于密封板上的具有固定口径的通孔。本申请还公开了一种微波等离子体化学气相沉积装置及其应用。本发明通过设计具有小孔的支路实现在不同压力下的调节,另一方面可以节约大量成本,另一方面控制精度高、压力稳定。
搜索关键词: 微波等离子体化学气相沉积 真空管 真空压力控制装置 抽真空接口 真空管路 比例阀 密封板 真空泵 阀门 连通 支路 固定口径 压力稳定 通孔 小孔 申请 节约 应用
【主权项】:
1.一种真空压力控制装置,其特征在于,包括设置在真空管路上的密封板、以及开设于密封板上的具有固定口径的通孔。
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