[发明专利]一种紫外光响应器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810398413.8 申请日: 2018-04-28
公开(公告)号: CN108493290B 公开(公告)日: 2020-04-14
发明(设计)人: 于乃森;陈向丰;齐岩;赵海燕;董大朋;苑青 申请(专利权)人: 大连民族大学
主分类号: H01L31/109 分类号: H01L31/109;H01L31/0336;H01L31/18
代理公司: 大连一通专利代理事务所(普通合伙) 21233 代理人: 郭丽华
地址: 116000 辽*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种基于MgO纳米材料/A面氮化镓结构的紫外光响应器件,其是在R面蓝宝石衬底与正面透明接触电极之间设有基于MgO纳米材料/A面GaN核壳阵列结构层,该核壳阵列结构层从R面蓝宝石衬底至正面透明接触电极依次设有低温GaN缓冲层、A面GaN外延层薄膜、氧化镁/氧化镓复合籽晶层和MgO纳米材料层。本发明以R面蓝宝石为衬底,其A‑GaN结构层是采用低压有机化学气相沉积方法依次生长低温GaN缓冲层及A‑GaN外延层,纳米MgO结构层则是采用乙酸镁和六次甲基四胺为原料,生长氧化镁前驱体结构并加热获得的。本发明制备方法简单、反应温度低并且制备出的产品对紫外光300‑400nm有着非常好的光响应,特别是具有非常快的光响应速度。
搜索关键词: 一种 紫外光 响应 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种基于MgO纳米材料/A面氮化镓结构的紫外光响应器件,其特征在于:其是在R面蓝宝石衬底与正面透明接触电极之间设有基于MgO纳米材料/A面GaN核壳阵列结构层,该核壳阵列结构层从R面蓝宝石衬底至正面透明接触电极依次设有低温GaN缓冲层、A面GaN外延层薄膜、氧化镁/氧化镓复合籽晶层和MgO纳米材料层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连民族大学,未经大连民族大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810398413.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top