[发明专利]气体处理系统及处理方法在审

专利信息
申请号: 201810366719.5 申请日: 2018-04-23
公开(公告)号: CN108591826A 公开(公告)日: 2018-09-28
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 睿力集成电路有限公司
主分类号: F17D1/04 分类号: F17D1/04;F17D3/01;F17D3/12;F17D5/00;H01L21/67
代理公司: 北京市铸成律师事务所 11313 代理人: 张臻贤;李够生
地址: 230000 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及一种气体处理系统及处理方法,系统包括排气系统的第一泵体与晶圆真空反应室连接,排气管路与第一、第二泵体连接;氮气管路与氮气供给系统以及排气管路连接,氮气管路将氮气供给系统中供应的氮气输送到排气管路稀释第一混合气体中的氧硫化碳浓度至爆炸浓度下限以下;供应至氮气管路中的氮气为从氮气供给系统供应至各厂务设备的氮气中分配出的。方法包括向晶圆真空反应室内放入晶圆并持续通入反应气体;氮气管路将氮气输送到排气管路中对氧硫化碳进行稀释;第二泵体将排气管路中的气体抽入其内部并再次稀释后排出。本发明解决了排气管路中氧硫化碳浓度过高发生爆炸以及不增加氮气供给系统负担的问题。
搜索关键词: 排气管路 氮气 氮气供给系统 氮气管路 氧硫化碳 稀释 晶圆 气体处理系统 第二泵体 真空反应室 厂务设备 第一泵体 反应气体 混合气体 浓度下限 排气系统 真空反应 爆炸 放入 后排 室内 分配
【主权项】:
1.一种气体处理系统,其特征在于,包括:至少一排气系统,具有第一泵体、第二泵体和排气管路;所述第一泵体与一晶圆真空反应室连接,所述排气管路的进气端与所述第一泵体连接,所述第一泵体将所述晶圆真空反应室中的第一混合气体抽入所述排气管路中;所述排气管路的出气端与所述第二泵体连接;所述第一混合气体包含氧硫化碳;氮气供给系统,用于向各厂务设备供应氮气;以及氮气管路,与所述氮气供给系统以及所述排气管路的所述进气端连接,所述氮气管路用于将所述氮气供给系统中供应的氮气输送到所述排气管路的所述进气端处,以稀释所述第一混合气体中的所述氧硫化碳浓度至爆炸浓度下限以下;其中,供应至所述氮气管路中的氮气为从所述氮气供给系统供应至各所述厂务设备的氮气中分配出的;所述第一混合气体经所述氮气稀释后生产第二混合气体,所述第二混合气体经由所述排气管路输送到所述第二泵体,所述第二泵体用于将所述排气管路中的第二混合气体排出。
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