[发明专利]气体处理系统及处理方法

权利要求书

1.一种气体处理系统，其特征在于，包括：

至少一排气系统，具有第一泵体、第二泵体和排气管路；所述第一泵体与一晶圆真空反应室连接，所述排气管路的进气端与所述第一泵体连接，所述第一泵体将所述晶圆真空反应室中的第一混合气体抽入所述排气管路中；所述排气管路的出气端与所述第二泵体连接；所述第一混合气体包含氧硫化碳；

氮气供给系统，用于向各厂务设备供应氮气；以及

氮气管路，与所述氮气供给系统以及所述排气管路的所述进气端连接，所述氮气管路用于将所述氮气供给系统中供应的氮气输送到所述排气管路的所述进气端处，以稀释所述第一混合气体中的所述氧硫化碳浓度至爆炸浓度下限以下；

其中，供应至所述氮气管路中的氮气为从所述氮气供给系统供应至各所述厂务设备的氮气中分配出的；所述第一混合气体经所述氮气稀释后生产第二混合气体，所述第二混合气体经由所述排气管路输送到所述第二泵体，所述第二泵体用于将所述排气管路中的第二混合气体排出。

2.如权利要求1所述的气体处理系统，其特征在于，所述厂务设备包括所述第二泵体，所述氮气供给系统为所述第二泵体供应氮气，所述第二泵体用于使用氮气将所述第二混合气体中的所述氧硫化碳再次稀释并排出所述第二泵体；

其中，供应至所述氮气管路中的氮气为从所述氮气供给系统供应至所述第二泵体的氮气中分配出的，所述氮气供给系统供应给所述氮气管路的氮气量小于供应给所述第二泵体的氮气量。

3.如权利要求1所述的气体处理系统，其特征在于，还包括：

流量控制装置，设置在所述氮气管路上，用于控制所述氮气管路中氮气的流量；

控制单元，与所述流量控制装置以及所述氮气供给系统电连接，所述控制单元用于监控所述氮气供给系统以及监测控制所述流量控制装置。

4.如权利要求3所述的气体处理系统，其特征在于，所述流量控制装置包括设置在所述氮气管路上的压力计、调压阀、流量计和流量阀；所述控制单元与所述压力计、所述调压阀、所述流量计以及所述流量阀电连接，所述控制单元通过监控所述压力计控制所述调压阀开度，以及通过监控所述流量计控制所述流量阀开度，以调节所述氮气管路中输送的氮气量。

5.如权利要求3所述的气体处理系统，其特征在于，所述控制单元包括监测管路和压力控制器，所述监测管路与所述氮气管路并联设置且与所述氮气供给系统连接，所述压力控制器通过监测所述监测管路中的氮气量，进而监测所述氮气供给系统的供气情况。

6.如权利要求5所述的气体处理系统，其特征在于，所述控制单元还与所述晶圆真空反应室电连接，根据监测的所述氮气供给系统以及所述流量控制装置的情况控制所述晶圆真空反应室工作。

7.如权利要求1所述的气体处理系统，其特征在于，所述氮气供给系统从供应给各所述厂务设备的氮气中分配部分氮气至所述氮气管路，未增加所述氮气供给系统中的氮气量。

8.如权利要求1所述的气体处理系统，其特征在于，所述排气管路竖直设置，由下至上依次包括底层区域、中层区域和高层区域；所述晶圆真空反应室和所述第一泵体位于所述高层区域，所述第二泵体位于所述底层区域。

9.如权利要求1所述的气体处理系统，其特征在于，在所述排气管路的所述进气端外部设置有加热带，在所述加热带的外部设置有防爆毯，所述加热带与所述防爆毯的设置位置在所述第一泵体与所述氮气管路之间。

10.如权利要求1所述的气体处理系统，其特征在于，还包括净气装置，所述净气装置与所述第二泵体连接，所述第二泵体将所述第二混合气体以及所述第二泵体中的氮气一同泵送到所述净气装置中进行气体除害处理后，排出到大气中。

11.如权利要求1所述的气体处理系统，其特征在于，所述排气系统为并联设置的多个，且每一所述排气系统均与一所述氮气管路和一所述晶圆真空反应室连接。