[发明专利]钨塞的制备方法

摘要

本发明提供一种钨塞的制备方法，包括，提供一衬底，于衬底中形成自所述衬底表面凹进所述衬底内的接触窗；于接触窗的内壁及底部形成钛薄膜；对钛薄膜的表面进行原位氮化处理，以形成氮化钛阻挡层；以六氟化钨作为钨源于具有氮化钛阻挡层的接触窗中填充钨层；去除位于衬底上表面的钛薄膜、氮化钛阻挡层及钨层，以形成钨塞于接触窗中。本发明采用原位氮化法在钛薄膜的表面形成一层氮化钛阻挡层，不仅可以避免填充钨层时六氟化钨与钛反应形成三氟化钛而造成的“火山”缺陷以及钨扩散至衬底中造成的钨污染，提高产品良品率，降低生产成本，而且原位氮化生成的氮化钛阻挡层和钛薄膜的结合强度高，接触电阻低，可大大提高产品性能。

主权项

1.一种钨塞的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：1)提供一衬底，于所述衬底中形成自所述衬底表面凹进所述衬底内的接触窗；2)在沉积室中采用等离子体增强化学气相沉积工艺于所述接触窗的内壁及底部形成钛薄膜；3)在所述沉积室中对所述钛薄膜的表面进行原位氮化处理，以形成氮化钛阻挡层，所述氮化钛阻挡层的厚度大于等于步骤2)中所述钛薄膜的沉积厚度的十分之一；4)以六氟化钨作为钨源，于具有所述氮化钛阻挡层的所述接触窗中填充钨层；5)去除位于所述衬底上表面的所述钛薄膜、所述氮化钛阻挡层及所述钨层，以形成钨塞于所述接触窗中。