[发明专利]绝缘结构有效

专利信息
申请号: 201810187130.9 申请日: 2018-03-07
公开(公告)号: CN108573843B 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 川口宏;石田勇二 申请(专利权)人: 住友重机械离子科技株式会社
主分类号: H01J37/08 分类号: H01J37/08;H01J37/317
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 夏斌
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种能够抑制因污染粒子的堆积而引起的绝缘性能下降的绝缘结构。在将设置于离子注入装置的真空区域内部的电极与其他部件绝缘并支承该电极的绝缘结构中,第1绝缘部件(32)支承电极。第2绝缘部件(34)为了减少污染粒子(18)向第1绝缘部件(32)的附着而嵌合于第1绝缘部件(32)。第2绝缘部件(34)由硬度比第1绝缘部件(32)低的材料形成。第2绝缘部件(34)的外表面的维氏硬度为5GPa以下。第2绝缘部件(34)的弯曲强度为100MPa以下。第2绝缘部件(34)由包含氮化硼、多孔陶瓷及树脂中的至少一种的材料形成。
搜索关键词: 绝缘 结构
【主权项】:
1.一种绝缘结构,将设置于离子注入装置的真空区域内部的电极与其他部件绝缘并支承该电极,所述绝缘结构的特征在于,具备:第1绝缘部件,支承所述电极;及第2绝缘部件,为了减少污染粒子向所述第1绝缘部件的附着而嵌合于所述第1绝缘部件,所述第2绝缘部件由硬度比所述第1绝缘部件低的材料形成。
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