[发明专利]基板液处理装置有效
申请号: | 201810096859.5 | 申请日: | 2018-01-31 |
公开(公告)号: | CN108376660B | 公开(公告)日: | 2023-08-01 |
发明(设计)人: | 田中幸二;盐川俊行;山下浩司;益富裕之;小杉仁;稻田尊士;池田贵志;平山司 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种基板液处理装置。防止从内槽内的处理液的表面飞散的处理液的飞沫飞散到内槽的外侧的意料之外的区域。基板液处理装置具备盖体(71、72),该盖体(71、72)能够在使内槽(34A)的上部开口封闭的封闭位置与使内槽的上部开口开放的开放位置之间移动。盖体具有:主体部(71A、72A),其在该盖体位于封闭位置时覆盖内槽的上部开口;以及飞沫遮蔽部(71B、72B、71D、72D),其连接到主体部。在盖体位于封闭位置时,飞沫遮蔽部从比与该飞沫遮蔽部相邻的内槽的侧壁的上端高的高度位置延伸至比该侧壁靠外槽那一侧且比该侧壁的上端低的位置。 | ||
搜索关键词: | 基板液 处理 装置 | ||
【主权项】:
1.一种基板液处理装置,其具备:内槽,其能够贮存处理液,该内槽具有上部开口;外槽,其设置于所述内槽的外侧;以及盖体,其能够在封闭所述内槽的上部开口的封闭位置与使所述内槽的上部开口开放的开放位置之间移动,所述盖体具有:主体部,其在所述盖体位于封闭位置时覆盖所述内槽的上部开口;以及飞沫遮蔽部,其连接到所述主体部,在所述盖体位于封闭位置时,所述飞沫遮蔽部从比与该飞沫遮蔽部相邻的所述内槽的侧壁的上端高的高度位置延伸至比该侧壁靠所述外槽那一侧且比该侧壁的上端低的位置。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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