[发明专利]一种具有良好孔掩蔽功能可直接描绘曝光成像的抗蚀剂组合物有效
| 申请号： | 201810069557.9 | 申请日： | 2018-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN108241259B | 公开（公告）日： | 2021-08-10 |
| 发明（设计）人： | 李志强;朱薛妍;李伟杰;周光大;林建华 | 申请（专利权）人： | 杭州福斯特电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/027 | 分类号： | G03F7/027;G03F7/004 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 邱启旺 |
| 地址： | 311300 浙江省杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有良好孔掩蔽功能可直接描绘曝光成像的抗蚀剂组合物，它包括50‑65重量份的碱溶性共聚物树脂、35‑50重量份光聚合性化合物和0.5～7重量份的光引发剂，且碱溶性共聚物树脂和光聚合性化合物的总量为100重量份；其中，光聚合性化合物由质量含量为5～30％的(甲基)丙烯酸酯化合物和质量含量为70～95％分子结构式中具有乙烯基不饱和键的化合物组成。使用本发明所述的抗蚀剂组合物进行直接描绘曝光时，具有优异的光敏性、分辨率和盖孔性等综合性能，能够高效率地形成精细的抗蚀图形和制造高精细的印刷线路板。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 良好 掩蔽 功能 直接 描绘 曝光 成像 抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种具有良好孔掩蔽功能可直接描绘曝光成像的抗蚀剂组合物，其特征在于，它包括50‑65重量份的碱溶性共聚物树脂、35‑50重量份光聚合性化合物和0.5～7重量份的光引发剂等，且碱溶性共聚物树脂和光聚合性化合物的总量为100重量份；其中，所述光聚合性化合物由质量含量为5～30％的式(I)所示的(甲基)丙烯酸酯化合物和质量含量为70～95％分子结构式中具有乙烯基不饱和键的化合物组成，![]()
式(I)中，R1为H原子或甲基，R2选自1‑18个碳原子的烷基，m、n相互独立地为0‑20的整数，且满足1≤m+n≤20。
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