[发明专利]一种高透过率导电薄膜的制作工艺及其制成的液晶显示屏有效
申请号: | 201810055433.5 | 申请日: | 2018-01-19 |
公开(公告)号: | CN108399963B | 公开(公告)日: | 2020-07-24 |
发明(设计)人: | 张如庆;陈耀文;王艳卿 | 申请(专利权)人: | 精电(河源)显示技术有限公司 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;H01B13/00;G02F1/1343;C23C14/35 |
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地址: | 517000 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种高透过率导电薄膜的制作工艺,利用直流磁控溅射技术制备导电薄膜,其中包括步骤:S1:将玻璃基板分别进行丙酮、乙醇及去离子水进行超声波清洗工作,各清洗工作均维持30min,然后在真空干燥箱中烘干;S2:靶位选择在电磁靶位上,并将靶材的倾斜靶偏角设为倾斜15°~30°;S3:通入氩气和氧气作为溅射气体,其中氧氩比设为15:85;并控制溅射时溅射电压为220V~260V之间,直流溅射功率为100W~120W,控制溅射时间为45min~70min,在玻璃基板上溅射形成导电薄膜。利用倾斜的靶材进行溅射,制造出多孔的导电薄膜,通过多孔结构降低薄膜的折射率,同时适当增加溅射的时间,提供较高的溅射功率,使得薄膜的厚度增加,逐渐减低薄膜的方阻和电阻率,提高电学性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 透过 导电 薄膜 制作 工艺 及其 制成 液晶显示屏 | ||
【主权项】:
1.一种高透过率导电薄膜的制作工艺,其特征在于,利用直流磁控溅射技术制备导电薄膜,其中包括步骤:S1:将玻璃基板分别进行丙酮、乙醇及去离子水进行超声波清洗工作,各清洗工作均维持30min,然后在真空干燥箱中烘干;S2:靶位选择在电磁靶位上,并将靶材的倾斜靶偏角设为倾斜15°~30°;S3:通入氩气和氧气作为溅射气体,其中氧氩比设为15:85;并控制溅射时溅射电压为220V~260V之间,直流溅射功率为100W~120W,控制溅射时间为45min~70min,在玻璃基板上溅射形成导电薄膜。
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