[发明专利]一种用于彩膜基板修复的激光输出形状控制系统及其方法有效
申请号: | 201810002643.8 | 申请日: | 2018-01-02 |
公开(公告)号: | CN108205213B | 公开(公告)日: | 2022-03-01 |
发明(设计)人: | 刘婷婷;李志宾;李鹏;陈鹏;崔家宾 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人: | 付生辉 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开一种用于彩膜基板修复的激光输出形状控制系统,包括激光狭缝自控装置,用于根据彩膜基板的黑矩阵膜层上的光刻胶残留类缺陷大小及形状来调整激光发射单元的激光输出范围;激光掩膜自动切换装置,位于所述激光狭缝自控装置下方,且用于将适配于所述黑矩阵膜层上的开口部的子激光掩膜移动至对应于所述激光狭缝自控装置的狭缝位置;其中,所述子激光掩膜上设置有与所述黑矩阵膜层上的开口部匹配的通光孔。本发明能够显著提高彩膜黑矩阵膜层的修复效率及彩膜黑矩阵膜层的良率。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 彩膜基板 修复 激光 输出 形状 控制系统 及其 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于彩膜基板修复的激光输出形状控制系统,其特征在于,包括激光狭缝自控装置,用于根据彩膜基板的黑矩阵膜层上的光刻胶残留类缺陷大小及形状来调整激光发射单元(1)的激光输出范围;激光掩膜自动切换装置,位于所述激光狭缝自控装置下方,且用于将适配于所述黑矩阵膜层上的开口部的子激光掩膜(12)移动至对应于所述激光狭缝自控装置的狭缝位置;其中,所述子激光掩膜(12)上设置有与所述黑矩阵膜层上的开口部匹配的通光孔(14)。
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