[发明专利]防反射膜及深紫外发光器件有效
申请号: | 201780081401.6 | 申请日: | 2017-12-22 |
公开(公告)号: | CN110140067B | 公开(公告)日: | 2021-04-13 |
发明(设计)人: | 丸山司 | 申请(专利权)人: | 同和电子科技有限公司 |
主分类号: | G02B1/115 | 分类号: | G02B1/115;H01L33/60 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供一种适用于深紫外发光器件的用途的防反射膜,其具有优异的耐湿性,并且即使对于深紫外光的斜入射而言反射率也较小。本发明的防反射膜具备:设置于窗构件上的、具有第1折射率的第1层;具有第2折射率的第2层;和具有第3折射率的第3层,在波长280nm下,所述第1折射率为1.6以上且2.0以下,所述第2折射率为2.0以上且2.7以下、并且大于所述第1折射率,所述第3折射率为1.3以上且1.6以下、并且小于所述第1折射率,构成所述第1折射率、所述第2折射率和所述第3折射率的材料由互不相同的氧化物构成。 | ||
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【主权项】:
1.一种防反射膜,其特征在于,其设置于透明的窗构件上,防止中心发射波长λ为260nm以上且340nm以下的范围内的深紫外光的反射,所述防反射膜具备:设置于所述窗构件上的、具有第1折射率的第1层;该第1层上的、具有第2折射率的第2层;和该第2层上的、具有第3折射率的第3层,在波长280nm下,所述第1折射率为1.6以上且2.0以下,所述第2折射率为2.0以上且2.7以下、并且大于所述第1折射率,所述第3折射率为1.3以上且1.6以下、并且小于所述第1折射率,具有所述第1折射率、所述第2折射率和所述第3折射率的层的材料由互不相同的氧化物构成。
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