[实用新型]一种离心式均匀性调节装置以及镀膜系统有效
| 申请号： | 201721837767.5 | 申请日： | 2017-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN207632877U | 公开（公告）日： | 2018-07-20 |
| 发明（设计）人： | 刘智山;王安平 | 申请（专利权）人： | 苏州浩联光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 赵琳琳 |
| 地址： | 215000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其是涉及一种离心式均匀性调节装置以及镀膜系统。该离心式均匀性调节装置包括：动态靶、离心式旋转装置、基片和基片驱动装置；所述基片驱动装置与所述基片连接，所述基片驱动装置用于带动所述基片进行旋转移动；所述动态靶设置于所述基片的下方，且与所述离心式旋转装置连接，所述离心式旋转装置用于驱动所述动态靶进行偏心旋转移动，以调节所述动态靶与所述基片之间的相对位置。该离心式均匀性调节装置有效的改善镀膜自然均匀性，增加了镀膜产品的有效面积，提高单片基片的产出率，较低了产品生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 均匀性调节 离心式 离心式旋转装置 驱动装置 镀膜系统 产品生产成本 本实用新型 单片基片 镀膜产品 镀膜技术 基片连接 偏心旋转 旋转移动 有效面积 产出率 均匀性 镀膜 驱动 移动 | ||
【主权项】：
1.一种离心式均匀性调节装置，其特征在于，包括：动态靶、离心式旋转装置、基片和基片驱动装置；所述基片驱动装置与所述基片连接，所述基片驱动装置用于带动所述基片进行旋转移动；所述动态靶设置于所述基片的下方，且与所述离心式旋转装置连接，所述离心式旋转装置用于驱动所述动态靶进行偏心旋转移动，以调节所述动态靶与所述基片之间的相对位置。
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