[实用新型]化学机械式研磨装置有效
| 申请号： | 201721616087.0 | 申请日： | 2017-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN207534605U | 公开（公告）日： | 2018-06-26 |
| 发明（设计）人： | 安俊镐;孙昞澈;罗原在 | 申请（专利权）人： | 凯斯科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/015 | 分类号： | B24B37/015;B24B37/20;B24B37/27;B24B37/34 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 姜虎;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本实用新型涉及化学机械式研磨装置，所述化学机械式研磨装置包括：研磨垫，其与基板接触；流体喷射模块，其向研磨垫的表面喷射流体；流体保存器，其使从流体喷射模块喷射的流体残留于研磨垫的表面上；借助于此，可以获得提高研磨效率性及研磨均匀度的有利效果。 | ||
| 搜索关键词： | 机械式研磨 研磨垫 流体喷射模块 流体 本实用新型 研磨均匀度 表面喷射 基板接触 流体保存 研磨效率 喷射 残留 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械式研磨装置，其特征在于，包括：研磨垫，其与基板接触；流体喷射模块，其向所述研磨垫的表面喷射流体；流体保存器，使从所述流体喷射模块喷射的所述流体残留于所述研磨垫的表面上。
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