[实用新型]RH真空处理系统及其卷扬提升结构和真空室支承装置有效
| 申请号： | 201720724143.6 | 申请日： | 2017-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN207091463U | 公开（公告）日： | 2018-03-13 |
| 发明（设计）人： | 廖坤明;刘斌奇;张文;黄俊;张钟蓓;许海虹 | 申请（专利权）人： | 中冶南方工程技术有限公司 |
| 主分类号： | C21C7/10 | 分类号： | C21C7/10;B66F7/02;B66F7/28 |
| 代理公司： | 北京汇泽知识产权代理有限公司11228 | 代理人： | 程殿军,张瑾 |
| 地址： | 430223 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种卷扬提升式RH真空处理系统及其卷扬提升结构和真空室支承装置，该真空室支承装置包括设有多个旋转支腿的升降框架，每一旋转支腿固连有传动转轴，每一传动转轴通过驱动单元驱动其绕自身轴线旋转，从而各旋转支腿可伸至真空室升降通道上以支承真空室或偏离真空室升降通道，每一传动转轴的顶部和底部分别连接有支承受力机构。通过设置上述各旋转支腿能够在支承位与非支承位之间切换运动，便于真空室的正常工作以及安装更换操作等；每一传动转轴的顶部和底部分别连接有支承受力机构，便于真空室支承装置承受并传递相应的载荷。通过上述真空室支承装置，可实现平稳、可靠的真空室支承效果，保证生产的正常运行及生产安全。 | ||
| 搜索关键词： | rh 真空 处理 系统 及其 卷扬 提升 结构 支承 装置 | ||
【主权项】：
一种卷扬提升式RH真空处理系统的真空室支承装置，包括升降框架，其特征在于：所述升降框架上设有多个旋转支腿，所述旋转支腿的数量与真空室上的真空室支座的数量相同且一一对应配置，每一所述旋转支腿固连有带动其伸至对应的所述真空室支座的升降通道上或偏离对应的所述真空室支座升降通道的传动转轴，各所述传动转轴均可转动安装于所述升降框架上且轴向均为竖向，每一所述传动转轴连接有用于驱动其绕自身轴线旋转的驱动单元；每一所述传动转轴的顶部和底部分别连接有支承受力机构。
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