[实用新型]基于台阶结构的发光二极管有效

专利信息
申请号: 201720544312.8 申请日: 2017-05-17
公开(公告)号: CN207021280U 公开(公告)日: 2018-02-16
发明(设计)人: 乔丽萍 申请(专利权)人: 西藏民族大学
主分类号: H01L33/30 分类号: H01L33/30;H01L33/62
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 712082 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 实用新型涉及一种基于台阶结构的发光二极管10,包括单晶Si衬底11第一Ge层12,设置于单晶Si衬底11表面;Ge基台阶结构13,设置于第一Ge层12表面的中心位置处;正电极14,设置于第一Ge层12的上表面并位于台阶结构13两侧的位置处;负电极15,设置于台阶结构13的上表面;钝化层16,设置于第一Ge层(12)和Ge基台阶结构(13)的上表面以及正电极(14)和Ge基台阶结构(13)的中间,以形成发光二极管10。本实用新型台阶结构的发光二极管,Si衬底上外延Ge层,制备出高质量GeSn层,极大地提高发光二极管的发光效率。
搜索关键词: 基于 台阶 结构 发光二极管
【主权项】:
一种基于台阶结构的发光二极管(10),其特征在于,包括:单晶Si衬底(11);第一Ge层(12),设置于所述单晶Si衬底(11)上表面;Ge基台阶结构(13),设置于所述第一Ge层(12)上表面的中心位置处;正电极(14),设置于所述第一Ge层(12)的上表面并位于所述Ge基台阶结构(13)两侧的位置处;负电极(15),设置于所述Ge基台阶结构(13)的上表面;钝化层(16),设置于所述第一Ge层(12)和所述Ge基台阶结构(13)的上表面以及所述正电极(14)和所述Ge基台阶结构(13)的中间,以形成所述发光二极管(10)。
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