[实用新型]基于台阶结构的发光二极管有效
申请号: | 201720544312.8 | 申请日: | 2017-05-17 |
公开(公告)号: | CN207021280U | 公开(公告)日: | 2018-02-16 |
发明(设计)人: | 乔丽萍 | 申请(专利权)人: | 西藏民族大学 |
主分类号: | H01L33/30 | 分类号: | H01L33/30;H01L33/62 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 712082 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种基于台阶结构的发光二极管10,包括单晶Si衬底11第一Ge层12,设置于单晶Si衬底11表面;Ge基台阶结构13,设置于第一Ge层12表面的中心位置处;正电极14,设置于第一Ge层12的上表面并位于台阶结构13两侧的位置处;负电极15,设置于台阶结构13的上表面;钝化层16,设置于第一Ge层(12)和Ge基台阶结构(13)的上表面以及正电极(14)和Ge基台阶结构(13)的中间,以形成发光二极管10。本实用新型台阶结构的发光二极管,Si衬底上外延Ge层,制备出高质量GeSn层,极大地提高发光二极管的发光效率。 | ||
搜索关键词: | 基于 台阶 结构 发光二极管 | ||
【主权项】:
一种基于台阶结构的发光二极管(10),其特征在于,包括:单晶Si衬底(11);第一Ge层(12),设置于所述单晶Si衬底(11)上表面;Ge基台阶结构(13),设置于所述第一Ge层(12)上表面的中心位置处;正电极(14),设置于所述第一Ge层(12)的上表面并位于所述Ge基台阶结构(13)两侧的位置处;负电极(15),设置于所述Ge基台阶结构(13)的上表面;钝化层(16),设置于所述第一Ge层(12)和所述Ge基台阶结构(13)的上表面以及所述正电极(14)和所述Ge基台阶结构(13)的中间,以形成所述发光二极管(10)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西藏民族大学,未经西藏民族大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201720544312.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。