[实用新型]硅片清洁装置有效

专利信息
申请号: 201720397303.0 申请日: 2017-04-14
公开(公告)号: CN206602102U 公开(公告)日: 2017-10-31
发明(设计)人: 孙铁囤;汤平;姚伟忠 申请(专利权)人: 常州亿晶光电科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/677;H01L21/683;H01L21/68
代理公司: 常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙)32258 代理人: 郑云
地址: 213000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提供一种硅片清洁装置,包括转盘、传送机构、限位机构、顶板机构以及清洁机构,限位机构包括矩形限位框,限位框设于上料工位工作台上方,限位框上端设有第一驱动装置;顶板机构包括依次连接的弯管接头和支撑块,弯管接头一端与工作台底端固定连接,弯管接头另一端与支撑块固定连接,支撑块为外径与弯管接头外径相同的四分之一圆形结构,支撑块圆心与转盘底端铰接,支撑块上设有第二驱动装置;清洁机构包括风刀、毛刷以及用于固定风刀和毛刷的支架,支架上设有第三驱动装置。本实用新型提供的一种硅片清洁装置,采用转盘、传送机构、限位机构、顶板机构以及清洁机构将硅片竖直设置并清洁硅片表面,提高清洁质量,保证印刷质量。
搜索关键词: 硅片 清洁 装置
【主权项】:
一种硅片清洁装置,其特征在于:包括转盘(1)、传送机构、限位机构、顶板机构以及清洁机构,所述转盘(1)上沿周向设有上料工位(11)、印刷工位(12)、下料工位(13)和清洁工位(14),且每个工位上设有一个工作台(3),四个所述工作台(3)沿所述转盘(1)周向均匀分布,所述工作台(3)边长与所述硅片(2)边长相同,所述工作台(3)上设有多个吸气孔(3‑1);所述限位机构包括矩形限位框(4),所述限位框(4)设于所述上料工位(11)的工作台(3)上方,所述限位框(4)下端面由内框向外框方向逐渐向下倾斜,所述限位框(4)内框边长小于所述工作台(3)边长,所述限位框(4)外框边长大于所述工作台(3)边长,所述限位框(4)与所述上料工位(11)的工作台(3)同轴,所述限位框(4)上端设有用于控制所述限位框(4)靠近或远离所述上料工位(11)的工作台(3)的第一驱动装置;所述顶板机构包括依次连接的弯管接头(5)和支撑块(6),所述弯管接头(5)为具有四分之一圆的弧形管状结构,所述工作台(3)底部设有所述弯管接头(5),所述弯管接头(5)一端与所述工作台(3)底端固定连接,所述弯管接头(5)另一端与所述支撑块(6)固定连接,所述支撑块(6)为外径与所述弯管接头(5)外径相同的四分之一圆形结构,所述支撑块(6)圆心与所述转盘(1)底端铰接,所述支撑块(6)上设有用于驱动所述支撑块(6)围绕圆心转动的第二驱动装置;所述清洁机构包括风刀(10)、毛刷(9)以及用于固定风刀(10)和毛刷(9)的支架(8),所述支架(8)竖直设于所述上料工位(11)的工作台(3)上方且位于靠近所述转盘(1)轴心的一侧,所述支架(8)上设有驱动所述支架(8)沿竖直方向上下移动的第三驱动装置。
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