[实用新型]湿法刻蚀槽以及湿法刻蚀设备有效
| 申请号： | 201720109655.1 | 申请日： | 2017-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN206541807U | 公开（公告）日： | 2017-10-03 |
| 发明（设计）人： | 刘海亮;王鹏涛;严清涛;许非凡 | 申请（专利权）人： | 东旭（昆山）显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司11283 | 代理人： | 李雪,李翔 |
| 地址： | 215300 江苏省苏州市昆山市开*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及显示器领域，公开了一种湿法刻蚀槽以及湿法刻蚀设备，该湿法刻蚀槽(1)包括具有进口(100)和出口(101)的槽体(10)和设置在所述出口处的气帘(11)，在所述进口和所述出口之间传送有喷洒药液的玻璃基板，所述气帘包括形成于所述气帘内部的通道，所述通道的两端分别形成有与气源相通的进气口以及能够向所述玻璃基板吹出气体的出气口，并且所述湿法刻蚀槽包括供给单元，所述供给单元能够通过所述进气口提供介质以通过所述介质冲洗所述通道。该湿法刻蚀槽中的气帘的内部的通道能够被冲洗，从而防止所述气帘被堵塞。由于在所述湿法刻蚀设备中设置了该湿法刻蚀槽，从而使得气体能够被稳定顺畅的排出，提高了刻蚀效率。 | ||
| 搜索关键词： | 湿法 刻蚀 以及 设备 | ||
【主权项】：
一种湿法刻蚀槽，其特征在于，该湿法刻蚀槽(1)包括具有进口(100)和出口(101)的槽体(10)和设置在所述出口(101)处的气帘(11)，在所述进口(100)和所述出口(101)之间传送有喷洒药液的玻璃基板，所述气帘(11)包括形成于所述气帘(11)内部的通道，所述通道的两端分别形成有与气源相通的进气口以及能够向所述玻璃基板吹出气体的出气口，并且所述湿法刻蚀槽包括供给单元，所述供给单元能够通过所述进气口提供介质以通过所述介质冲洗所述通道。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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