[实用新型]CMP设备内部喷洒系统有效
| 申请号： | 201720065384.4 | 申请日： | 2017-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN206464977U | 公开（公告）日： | 2017-09-05 |
| 发明（设计）人： | 韦荣 | 申请（专利权）人： | 吉姆西半导体科技（无锡）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34;B24B53/017 |
| 代理公司： | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙)32104 | 代理人： | 曹祖良,屠志力 |
| 地址： | 214194 江苏省无锡市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供一种CMP设备内部喷洒系统，包括至少一根支撑杆，所述支撑杆连接在支撑装置上，支撑杆位于相邻两个研磨头之间；支撑杆的安装高度高于研磨头；在支撑杆上固定有喷洒器；所述喷洒器包括底座、底座内部的通道、转接头和喷嘴；两个转接头分别设在底座的两端，与通道连通，且所述转接头为倾斜角度转接头；喷嘴设在转接头上；底座固定在支撑杆上，底座上的两个喷嘴分别位于所在支撑杆的两侧，并朝向外侧下方。本实用新型可实现CMP设备内部环境的清洁，降低CMP工艺时颗粒密度，提高晶圆良率。 | ||
| 搜索关键词： | cmp 设备 内部 喷洒 系统 | ||
【主权项】：
一种CMP设备内部喷洒系统，其特征在于，包括至少一根支撑杆(5)，所述支撑杆(5)连接在支撑装置(4)上，支撑杆(5)位于相邻两个研磨头(3)之间；支撑杆(5)的安装高度高于研磨头(3)；在支撑杆(5)上固定有喷洒器(6)；所述喷洒器(6)包括底座(601)、底座(601)内部的通道(602)、转接头(603)和喷嘴(604)；两个转接头(603)分别设在底座(601)的两端，与通道(602)连通，且所述转接头(603)为倾斜角度转接头；喷嘴(604)设在转接头(603)上；底座(601)固定在支撑杆(5)上，底座(601)上的两个喷嘴(604)分别位于所在支撑杆(5)的两侧，并朝向外侧下方。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于吉姆西半导体科技（无锡）有限公司，未经吉姆西半导体科技（无锡）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201720065384.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：化学机械抛光用的游星轮
- 下一篇：一种火龙果果酒的加工方法
