[实用新型]一种掩膜板及曝光系统有效
| 申请号： | 201720044297.0 | 申请日： | 2017-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN206421156U | 公开（公告）日： | 2017-08-18 |
| 发明（设计）人： | 王曼;翟玉漫;张晓妹 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/42 | 分类号： | G03F1/42;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人： | 周娟 |
| 地址： | 230012 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开一种掩膜板及曝光系统，涉及液晶显示技术领域，为解决接近式曝光过程中，掩膜板中心下沉，所导致的曝光位置偏差和曝光距离不均的问题。掩膜板与被曝光基板相对设置，掩膜板包括层叠设置的透光部和遮光部，透光部和遮光部均具有凸起，遮光部的凸起方向和透光部的凸起方向相同；所述遮光部与所述被曝光基板相对设置，所述遮光部的凸起方向朝向所述透光部。本实用新型提供的掩膜板及曝光系统用于接近式曝光模式中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 曝光 系统 | ||
【主权项】：
一种掩膜板，与被曝光基板相对设置，其特征在于，包括层叠设置的透光部和遮光部，所述透光部和所述遮光部均具有凸起，所述遮光部的凸起方向和所述透光部的凸起方向相同；所述遮光部与所述被曝光基板相对设置，所述遮光部的凸起方向朝向所述透光部。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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