[实用新型]多功能曝光平台有效

专利信息
申请号: 201720028198.3 申请日: 2017-01-11
公开(公告)号: CN206470537U 公开(公告)日: 2017-09-05
发明(设计)人: 戴童庆;代毓平 申请(专利权)人: 深圳市大川光电设备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 代理人: 汤东凤
地址: 518000 广东省深圳市宝安*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型提供一种多功能曝光平台,包括控制单元以及依次相接设置的滚轮上料机构、平台主体与滚轮下料机构,平台主体的上方设有导向推板机构,导向推板机构包括开口方向面向滚轮上料机构所在一侧的L型导向推板以及驱动L型导向推板在平台主体上方分别沿X轴方向及Y轴方向平移的XY平面运动机构,L型导向推板包括相互垂直设置的X轴方向推板及Y轴方向推板,X轴方向推板面向滚轮上料机构的一侧设有到位检测结构,平台主体包括气浮吸附一体平面,且平台主体的底侧设有若干升降支脚,控制单元分别与XY平面运动机构、到位检测结构以及若干升降支脚电性连接,X轴方向平行于滚轮上料结构的送料方向,Y轴方向垂直于滚轮上料结构的送料方向。
搜索关键词: 多功能 曝光 平台
【主权项】:
一种多功能曝光平台,其特征在于,包括控制单元以及依次相接设置的滚轮上料机构、平台主体与滚轮下料机构,所述平台主体的上方设有导向推板机构,所述导向推板机构包括开口方向面向所述滚轮上料机构所在一侧的L型导向推板以及驱动所述L型导向推板在所述平台主体上方分别沿X轴方向及Y轴方向平移的XY平面运动机构,所述L型导向推板包括相互垂直设置的X轴方向推板及Y轴方向推板,所述X轴方向推板面向所述滚轮上料机构的一侧设有到位检测结构,所述平台主体包括气浮吸附一体平面,且所述平台主体的底侧设有若干升降支脚,所述控制单元分别与所述XY平面运动机构、所述到位检测结构以及所述若干升降支脚电性连接,所述X轴方向平行于所述滚轮上料结构的送料方向,所述Y轴方向垂直于所述滚轮上料结构的送料方向。
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