[发明专利]光刻胶图案的制备方法在审
| 申请号： | 201711487979.X | 申请日： | 2017-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN108153109A | 公开（公告）日： | 2018-06-12 |
| 发明（设计）人： | 赵芬利 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰;武岑飞 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 提供了一种光刻胶图案的制备方法。所述制备方法包括：在基板上形成包括光引发剂颗粒的光刻胶层；将形成有光刻胶层的基板置于驻波场中，使得光引发剂颗粒聚集而在基板上形成预定图案；对形成有预定图案的基板执行真空干燥、前烘烤和紫外光照射，使驻波点处的光引发剂颗粒发生交联反应；通过显影去除未发生交联反应区域的光刻胶，然后进行后烘烤，得到预期的光刻胶图案。本发明依据驻波场原理制备光刻胶图案，可以省去光罩，节约成本，降低操作复杂程度，提高光刻胶图案的制备精度。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻胶图案 制备 基板 光引发剂 光刻胶层 交联反应 预定图案 驻波场 烘烤 紫外光照射 颗粒聚集 光刻胶 预期的 光罩 显影 驻波 去除 节约 | ||
【主权项】：
一种光刻胶图案的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括下述步骤：S1、在基板上形成包括光引发剂颗粒的光刻胶层；S2、将形成有光刻胶层的基板置于驻波场中，使得光引发剂颗粒聚集而在基板上形成预定图案；S3、对形成有预定图案的基板执行真空干燥、前烘烤和紫外光照射，使驻波点处的光引发剂颗粒发生交联反应；S4、通过显影去除未发生交联反应区域的光刻胶，然后进行后烘烤，得到预期的光刻胶图案。
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