[发明专利]光刻胶图案的制备方法

说明书

提供了一种光刻胶图案的制备方法。所述制备方法包括：在基板上形成包括光引发剂颗粒的光刻胶层；将形成有光刻胶层的基板置于驻波场中，使得光引发剂颗粒聚集而在基板上形成预定图案；对形成有预定图案的基板执行真空干燥、前烘烤和紫外光照射，使驻波点处的光引发剂颗粒发生交联反应；通过显影去除未发生交联反应区域的光刻胶，然后进行后烘烤，得到预期的光刻胶图案。本发明依据驻波场原理制备光刻胶图案，可以省去光罩，节约成本，降低操作复杂程度，提高光刻胶图案的制备精度。

技术领域

本发明涉及光刻胶图案的制备技术领域，更具体地讲，涉及一种制备光刻胶图案的方法。

背景技术

目前，制备光刻胶图案的方法由涂布、前烘烤、曝光、显影和后烘烤五步完成。通常，在曝光过程中需要用到光罩来形成光刻胶的图案，然而，光罩价格昂贵，并且曝光操作复杂，精度不高。

发明内容

本发明的示例性实施例在于提供一种新型的制备光刻胶图案的方法，以克服现有技术中的问题。

本发明提供了一种光刻胶图案的制备方法。所述制备方法包括下述步骤：S1、在基板上形成包括光引发剂颗粒的光刻胶层；S2、将形成有光刻胶层的基板置于驻波场中，使得光引发剂颗粒聚集而在基板上形成预定图案；S3、对形成有预定图案的基板执行真空干燥、前烘烤和紫外光照射，使驻波点处的光引发剂颗粒发生交联反应；S4、通过显影去除未发生交联反应区域的光刻胶，后烘烤，得到预期的光刻胶图案。

优选地，所述光刻胶层采用的是正性光刻胶，在步骤S2中，所述光引发剂颗粒在非驻波点处聚集而形成所述预定图案。所述光刻胶层采用的是正性光刻胶，在步骤S2中，所述光引发剂颗粒在驻波点处聚集而形成所述预定图案。

优选地，所述制备方法还可以包括调整所述驻波场的频率以控制所述预定图案的线宽或者所述预定图案的间距。

优选地，所述驻波场的频率可以为20～500MHz。

优选地，所述制备方法还可以包括调整所述基板在所述驻波场中的角度以控制所述光刻胶图案的形状。

优选地，所述制备方法还可以包括重复所述步骤S1至步骤S4，其中，在重复所述步骤S2时，调整所述基板在所述驻波场中的角度。

优选地，所述光引发剂颗粒的粒径可以为0.01μm～0.1μm。

优选地，基于所述光刻胶的总质量，所述光引发剂颗粒的质量百分比含量可以为0.2～0.6％。

优选地，在所述步骤S1中，将光刻胶涂布在所述基板上，以形成所述包括光引发剂颗粒的光刻胶层。

优选地，所述光刻胶还可以包括溶剂。

优选地，基于所述光刻胶的总质量，所述溶剂的质量百分比含量可以为70～80％。

优选地，所述光刻胶还可包括粘合树脂、单体、颜料和分散剂。

本发明依据驻波场原理进行光刻胶图案的制备，可以省去光罩，节约成本，降低操作复杂程度，提高光刻胶图案的制备精度。

将在接下来的描述中部分阐述本发明总体构思另外的方面和/或优点，还有一部分通过描述将是清楚的，或者可以经过本发明总体构思的实施而得知。

附图说明

图1A示出了驻波场中粒子受力运动的示意图，图1B示出了光引发剂驻波点的分布图。

图2示出了根据本发明示例性实施例的制备光刻胶图案的方法的流程图。

图3示出了根据本发明示例性实施例的制备光刻胶图案的方法在基板上形成光刻胶层的示意图。

图4示出了根据本发明示例性实施例的制备光刻胶图案的方法使引发剂颗粒聚集的示意图。