[发明专利]图像传感器及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201711459021.X 申请日: 2017-12-28
公开(公告)号: CN107948552B 公开(公告)日: 2020-03-31
发明(设计)人: 龚劲峰;常建光 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H04N5/374 分类号: H04N5/374;H04N5/378;H04N5/361
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 徐文欣;吴敏
地址: 223302 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种图像传感器及其形成方法,图像传感器包括:位于基底有效像素区上的有效像素阵列,有效像素阵列包括N行×M列的若干有效像素单元,M大于等于2,N大于等于2;位于基底第一辅助像素区上的第一辅助像素阵列,第一辅助像素阵列包括Q行×M列的若干第一辅助像素单元,Q大于等于1;位于基底第二辅助像素区上的第二辅助像素阵列,第二辅助像素阵列包括Q行×W列的若干第二辅助像素单元,W大于等于1;位于基底负载区上的N个负载电容元件,N个负载电容元件分别位于每行有效像素单元的侧部。所述像素传感器的集成度得到提高。
搜索关键词: 图像传感器 及其 形成 方法
【主权项】:
一种图像传感器,其特征在于,包括:基底,所述基底包括有效像素区、负载区、第一辅助像素区和第二辅助像素区,所述有效像素区具有相邻的第一侧和第三侧,所述第一辅助像素区位于有效像素区的第一侧,所述负载区位于有效像素区的第三侧,所述第二辅助像素区位于由负载区边缘和第一辅助像素区边缘构成的拐角处;位于基底有效像素区上的有效像素阵列,所述有效像素阵列包括N行×M列的若干有效像素单元,M为大于等于2的整数,N为大于等于2的整数;位于基底第一辅助像素区上的第一辅助像素阵列,第一辅助像素阵列包括Q行×M列的若干第一辅助像素单元,Q为大于等于1的整数;位于基底第二辅助像素区上的第二辅助像素阵列,第二辅助像素阵列包括Q行×W列的若干第二辅助像素单元,W为大于等于1的整数;位于基底负载区上的N个负载电容元件,所述N个负载电容元件分别位于每行有效像素单元的侧部,所述负载电容元件包括一个或多个负载电容。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德淮半导体有限公司,未经德淮半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711459021.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top