[发明专利]在惰性气体中进行的集成电路器件测试有效
| 申请号： | 201711444248.7 | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN108242409B | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | G.H.于莱;M.拉菲;张南德;T.H.黄;薛明 | 申请（专利权）人： | 英飞凌科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/66 | 分类号： | H01L21/66;G01R31/28 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 王岳;申屠伟进 |
| 地址： | 德国瑙伊比*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了在惰性气体中进行的集成电路器件测试。一种系统包括惰性气体供应、浸泡室、测试室、转移区和加热器。该浸泡室使集成电路（IC）器件在测试之前浸泡在惰性气体中。该测试室包括接触引脚以用来通过使该测试引脚接触IC器件的引线而在惰性气体中测试IC器件。该转移区用以将IC器件从浸泡室转移至测试室。该加热器加热供应给浸泡室和测试室的惰性气体。 | ||
| 搜索关键词： | 惰性气体 进行 集成电路 器件 测试 | ||
【主权项】：
1.一种系统，包括：惰性气体供应；浸泡室，其用以使集成电路（IC）器件在测试之前浸泡在惰性气体中；测试室，其包括接触引脚以用来通过使该接触引脚接触IC器件的引线而在惰性气体中测试IC器件；转移区，其用以将IC器件从浸泡室转移至测试室；以及加热器，其用以加热供应给浸泡室和测试室的惰性气体。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
