[发明专利]一种高真空系统用薄膜图形化方法及装置在审
| 申请号： | 201711393449.9 | 申请日： | 2017-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN109943886A | 公开（公告）日： | 2019-06-28 |
| 发明（设计）人： | 张祥;梁枫;丁帅 | 申请（专利权）人： | 常州国成新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B23/04 | 分类号： | C30B23/04;C30B25/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 213149 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高真空系统用薄膜图形化方法及装置，包括存样装置，掩膜板装置，掩膜板架，样品承载架，传送装置，所述传送装置共有两个功能传送部件，通过传送部件（5）将放于存样装置（1）的掩膜板装置（2）放于掩膜板架（3）上，通过传送部件（6）将基板取出，置于掩膜板装置（2）上，再通过传送部件（5）将装有基板的掩膜板装置（2）放置于样品承载架（4）上，完成样品沉积。该系统通过多次简单的传动，实现了基片和掩膜版装置在超高真空条件下的装载和拆解，同时避免样品在污染的条件下，对表面的薄膜进行图形化，简单的操作保证了整个系统的可靠性和系统的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 传送部件 高真空系统 薄膜图形 传送装置 存样装置 掩膜板架 样品承载 基板 超高真空条件 功能传送 样品沉积 图形化 掩膜版 拆解 传动 薄膜 装载 取出 污染 保证 | ||
【主权项】：
1.一种高真空系统用薄膜图形化方法及装置，包括存样装置，掩膜板装置，掩膜板架，样品承载架，传动装置，其特征在于，所述传动装置共有两个传送部件，通过一个传送部件将放于存样装置的掩膜板装置放于掩膜板架上，通过另一个传送部件将基板取出，置于掩膜板装置上，随后通过一个传送部件将装有基板的掩膜板装置放置于样品承载架上，完成样品的沉积。
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