[发明专利]基于微结构介电层的薄膜晶体管压力传感器及制备方法在审

专利信息
申请号: 201711290439.2 申请日: 2017-12-08
公开(公告)号: CN108204869A 公开(公告)日: 2018-06-26
发明(设计)人: 林慧;孔骁;陶斯禄 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G01L1/14 分类号: G01L1/14;G01L9/12;H01L41/113;H01L41/22;H01L51/05;H01L51/40
代理公司: 成都惠迪专利事务所(普通合伙) 51215 代理人: 刘勋
地址: 610000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 基于微结构介电层的薄膜晶体管压力传感器及制备方法,属于压力传感器领域。本发明的压力传感器包括顺次设置的衬底玻璃、有源层、PDMS薄膜层、PDMS微结构层、ITO层和PET层,衬底玻璃上设置有与有源层接触的金属电极,所述的PDMS薄膜层在有源层之上,所述PDMS微结构层包括至少9个PDMS材质的锥形体,所述锥形体的底面与ITO层接触,锥形体的顶端与PDMS薄膜层接触,所述锥形体为自顶端向底面横截面逐渐增大的几何体。本发明提高了受压力时PDMS的形变,极大的提升了器件的压力灵敏度。
搜索关键词: 压力传感器 锥形体 源层 薄膜晶体管 衬底玻璃 微结构层 介电层 微结构 底面 制备 压力灵敏度 金属电极 逐渐增大 几何体 形变
【主权项】:
1.基于微结构介电层的薄膜晶体管压力传感器,其特征在于,包括顺次设置的的衬底玻璃、有源层、PDMS薄膜层、PDMS微结构层、ITO层和PET层,衬底玻璃上设置有与有源层接触的金属电极,所述的PDMS薄膜层在有源层之上,所述PDMS微结构层包括至少9个PDMS材质的锥形体,所述锥形体的底面与ITO层接触,锥形体的顶端与PDMS薄膜层接触,所述锥形体为自顶端向底面横截面逐渐增大的几何体。
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