[发明专利]一种彩膜基板及其制备方法有效
| 申请号： | 201711275653.0 | 申请日： | 2017-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN108089366B | 公开（公告）日： | 2021-04-23 |
| 发明（设计）人： | 邵源;闫春秋 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种彩膜基板及其制备方法，所述方法包括以下步骤：先提供一基板，在所述基板上制备彩膜色阻层，将经过高电阻低粘度处理过的聚3,4‑乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠材料涂布于所述彩膜色阻层上，形成聚3,4‑乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠膜；然后对涂布有所述聚3,4‑乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠材料的所述基板表面进行预设处理，使所述聚3,4‑乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠膜膜面结构转变为低电阻状态，进行固化处理；最后图形化所述聚3,4‑乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠膜以形成透明电极。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 彩膜基板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：步骤S1、提供一基板，在所述基板上制备彩膜色阻层，将经过高电阻低粘度处理过的聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠材料涂布于所述彩膜色阻层上，形成聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠膜；步骤S2、对涂布有所述聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠材料的所述基板表面进行预设处理，使所述聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠膜膜面结构转变为低电阻状态，进行固化处理；步骤S3、图形化所述聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠膜以形成透明电极。
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