[发明专利]一种彩膜基板及其制备方法

说明书

本发明提供一种彩膜基板及其制备方法，所述方法包括以下步骤：先提供一基板，在所述基板上制备彩膜色阻层，将经过高电阻低粘度处理过的聚3,4‑乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠材料涂布于所述彩膜色阻层上，形成聚3,4‑乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠膜；然后对涂布有所述聚3,4‑乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠材料的所述基板表面进行预设处理，使所述聚3,4‑乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠膜膜面结构转变为低电阻状态，进行固化处理；最后图形化所述聚3,4‑乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠膜以形成透明电极。

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制备方法。

背景技术

透明电极作为一种不仅透明而且导电的材料，被大量用于太阳能电池、面板显示、触屏、PDP显示、OLED显示等相关技术中。透明电极通常要求尽量低的电阻、尽量高的透过率、简单的制作工艺以保证尽可能低的成本。上述器件中广泛使用铟锡氧化物ITO作为电极，虽然具备良好的透光性及导电性，但是其溅射成膜设备成本较高，且图案化难度较高。在柔性方面，由于ITO材料薄膜较硬，材料较脆使其在新兴的柔性电子器件应用上受到限制。加上铟原料的缺乏，使ITO薄膜在普通电子产品上的应用受到越来越多的限制。

而有机聚合物材料PEDOT:PSS在成膜后拥有较高的透过率及较低的电阻，在空气中稳定性良好，而且其在柔性电极方面也具有绝佳的表现力。然而，PEDOT:PSS由于构象异构结构的存在使得其在拥有低电阻的同时具备一个相对较高的黏度。然而，高粘度正是制约主流大面积涂布设备IJP、Slit Coater涂布特性的一个重要因素。目前，PEDOT：PSS主要通过旋涂的方式应用在小尺寸上，可是现有的旋涂方式并不能进行大面积成膜，这极大制约了这种极具潜力的新型导电材料的大面积和图案化的应用及发展。

综上所述，现有有机聚合物材料PEDOT:PSS因具备相对较高的黏度，在大面积成膜以及在大尺寸显示面板的应用中受到极大制约。

发明内容

本发明提供一种彩膜基板及其制备方法，能够使有机聚合物材料PEDOT:PSS在大尺寸显示面板上均匀成膜，从而形成高透过率低电阻的透明电极。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明提供一种彩膜基板的制备方法，所述方法包括以下步骤：

步骤S1、提供一基板，在所述基板上制备彩膜色阻层，将经过高电阻低粘度处理过的聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠材料涂布于所述彩膜色阻层上，形成聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠膜；

步骤S2、对涂布有所述聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠材料的所述基板表面进行预设处理，使所述聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠膜膜面结构转变为低电阻状态，进行固化处理；

步骤S3、图形化所述聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠膜以形成透明电极。

根据本发明一优选实施例，所述将经过高电阻低粘度处理过的聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠材料涂布于所述彩膜色阻层上，包括以下步骤：

步骤S101、将聚苯乙烯磺酸钠、3,4-乙烯二氧噻吩、醇类化合物以及去离子水加入反应瓶中，搅拌至溶解完全；

步骤S102、加入氧化剂、催化剂以及丙三醇进行反应，形成含所述聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠的水分散体；

步骤S103、过滤纯化所述水分散体，最后取沉淀用去离子水稀释后超声分散，得到深蓝色的含所述聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠的水分散体；

步骤S104、过滤所述聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠水分散体，其中添加至少包含有异丙醇的有机助剂，搅拌至溶解，以获得高电阻低粘度结构的所述聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠材料；