[发明专利]一种彩膜基板及其制备方法

权利要求书

1.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

步骤S1、提供一基板，在所述基板上制备彩膜色阻层，将聚苯乙烯磺酸钠、3,4-乙烯二氧噻吩、醇类化合物以及去离子水加入反应瓶中，搅拌至溶解完全；

加入氧化剂、催化剂以及丙三醇进行反应，形成含聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠的水分散体；

过滤纯化所述水分散体，最后取沉淀用去离子水稀释后超声分散，得到深蓝色的含聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠的水分散体；

过滤所述聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠水分散体，其中添加至少包含有异丙醇的有机助剂，搅拌至溶解，以获得高电阻低粘度结构的聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠材料；

将所述聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠材料涂布于彩膜色阻层上，形成聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠膜；

步骤S2、将乙二醇喷淋在涂布有所述聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠材料的所述基板表面进行表面处理，使所述聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠膜膜面结构转变为低电阻高粘度状态，进行固化处理；

步骤S3、图形化所述聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠膜以形成透明电极。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤S1中，搅拌温度为20～60℃。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述加入氧化剂、催化剂以及丙三醇进行反应的反应时间为8～24h。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤S1中，采用阴阳离子交换树脂进行所述过滤纯化操作，将所述水分散体离心后取沉淀用蒸馏水稀释后再次分散溶解，反复进行3～5次。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述异丙醇的添加量为所述聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠溶液体积的3％～60％。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述高电阻低粘度结构的所述聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠材料的黏度为8-30cps。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述固化处理后，所述聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸钠膜厚度在50-2500nm之间。

8.一种由如权利要求1-7中任一项权利要求所述的制备方法制备的彩膜基板。