[发明专利]一种薄膜沉积设备及清洗方法

摘要

本发明公开了一种薄膜沉积设备，包括：反应腔室，内设有用于放置衬底的基座，基座上方设有气体喷淋头，气体喷淋头上设有用于向反应腔室内通入前躯体A的主通道以及用于向反应腔室内通入前躯体B的副通道，基座周围环绕设有气体匀流栅；反应腔室通过真空排气管路连接干泵；还包括：清洗通道，设于气体喷淋头上，且清洗通道的上端连接至清洗气体源，下端通过清洗气体出口连通反应腔室内部，清洗气体出口环绕衬底并向其外侧倾斜设置。本发明可提高设备有效利用率和成膜质量。本发明还公开了一种薄膜沉积设备的清洗方法。

主权项

1.一种薄膜沉积设备，包括：反应腔室，内设有用于放置衬底的基座，所述基座上方设有气体喷淋头，所述气体喷淋头上设有用于向反应腔室内通入前躯体A的主通道以及用于向反应腔室内通入前躯体B的副通道，所述基座周围环绕设有气体匀流栅；所述反应腔室通过真空排气管路连接干泵；其特征在于，还包括：清洗通道，设于所述气体喷淋头上，且所述清洗通道的上端连接至清洗气体源，下端通过清洗气体出口连通反应腔室内部，所述清洗气体出口环绕所述衬底并向其外侧倾斜设置。