[发明专利]化学增幅正型抗蚀剂膜层叠体和图案形成方法有效
| 申请号： | 201711186205.3 | 申请日： | 2017-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN108107676B | 公开（公告）日： | 2023-02-21 |
| 发明（设计）人： | 平野祯典;浅井聪;近藤和纪 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/016;G03F7/039 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 李英 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂膜层叠体和图案形成方法。提供层叠体，其包括热塑性膜和其上的化学增幅正型抗蚀剂膜，该抗蚀剂膜包含：(A)具有羟基苯基和保护基团的基础聚合物，该聚合物由于在酸的作用下保护基团被除去而变为碱可溶，(B)光致产酸剂，(C)有机溶剂，和(D)在其主链中具有酯键的聚合物。该抗蚀剂膜可被转印至台阶形支承体而不形成空隙。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 增幅 正型抗蚀剂膜 层叠 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.化学增幅正型抗蚀剂膜层叠体，包括热塑性膜和其上的化学增幅正型抗蚀剂膜，所述化学增幅正型抗蚀剂膜包含：(A)基础树脂，其包含在侧链上具有羟基苯基和保护基团的聚合物，所述聚合物由于在酸的作用下保护基团被除去而变为碱可溶，(B)光致产酸剂，(C)3-30重量％的有机溶剂，和(D)在其主链中具有酯键的聚合物，所述抗蚀剂膜能够被转印至另一支承体。
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